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電子發燒友網>電子資料下載>電子論文>納米材料論文>不同摻Al3+濃度的ZnO:Al薄膜性能研究

不同摻Al3+濃度的ZnO:Al薄膜性能研究

2009-05-23 | rar | 651 | 次下載 | 5積分

資料介紹

采用溶膠-凝膠法制備ZnAl(ZAO)薄膜,得到了不同摻Al3+濃度的ZAO薄膜;利用X射線衍射儀分析、原子力顯微鏡、紫外-可見分光光度計及四探針法等儀器與方法對其性能進行了測試。通過分析比較,得出所制備的ZAO薄膜為多晶纖鋅礦結構,薄膜表面平整、晶粒致密均勻;Al3+摻雜能提高其導電性能:低摻雜時,薄膜在紫外-可見光范圍的透過率超過80%,并伴有藍移現象產生;高摻雜時,其透過率無明顯增加,但藍移現象加劇,最大藍移量達340 nm 。
ZnAl (ZAO) thin films with different proportion of Al3+ doping are prepared by sol-gel method. XRD, AFM, ultraviolet-visible spectroscope meter and the method of four-explorwtion-needle are adopted to test the property of ZAO thin films. Through analysis and comparison, hereinafter phenomena can be obtained: ZAO thin films prepared by sol-gel method has polycrystalline hexagonal wurtzite structure , the surface of the ZAO thin films is flat, the crystal is very thickness and symmetry. The conductivity can be improved by Al3+ doping. The transmittance in ultraviolet-visible region is higher than 80% with hypo-Al3+ doping, accompanying the phenomena of Burstein moving. The transmittance increases indistinctively, but the phenomena of burstein moving is aggravating, the most amount of Burstein moving measure up to 340 nm.
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