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影響VoLTE MOS的主要因素,如何優(yōu)化?資料下載

2021-04-25 | pdf | 453.16KB | 次下載 | 2積分

資料介紹

▋影響VoLTE MOS的主要因素 VoLTE MOS的優(yōu)化和基礎的無線優(yōu)化息息相關,主要從以下幾個方面進行分析:容量、上行干擾、弱覆蓋、切換、RRC重建、故障告警以及UE問題等。 ▋VoLTE MOS優(yōu)化手段 1、容量優(yōu)化 高負荷場景下由于資源受限會導致VOLTE語音包無法及時調度,增大時延和抖動,嚴重時還會引起棄包,從而影響MOS值。 大話務導致高丟包最直接有效的優(yōu)化方法就是負載均衡、業(yè)務分擔,對于單層網(wǎng)或者周邊站點較少的情形,可以根據(jù)覆蓋場景建立多層網(wǎng)覆蓋,提升用戶VOLTE語音通話質量以及數(shù)據(jù)業(yè)務感知。負荷分擔參數(shù)如下: 2、上行干擾 在LTE系統(tǒng)中,由于UE上行功率有限,上行信道容易成為瓶頸。在移動TDD系統(tǒng)中,由于無法應用TTI bundling等技術,上行更容易成為受限因素。 針對干擾小區(qū)先進行干擾排查、定位干擾原因,最終清除干擾。從參數(shù)層面通過Power Control削減干擾對指標的影響,從 Differential Uplink Power Control、PRACH Power Control、PUSCH Power Control、PUCCH Power Control等方面考慮并修改參數(shù)。 開啟基于上行質量的ESRVCC切換功能,該功能增加了UL SINR作為第三連接質量檢測依據(jù)(傳統(tǒng)的是DL RSRP和RSRQ),上行SINR比較差時觸發(fā)門限,切換到更好的其他系統(tǒng)小區(qū)。UE在LTE原小區(qū)做VoLTE業(yè)務, 并向小區(qū)邊緣移動,進入UL search zone后,當eNB檢測當前SINR值低于a1a2UlSearchThreshold門限時,會向UE下發(fā)B2測量配置,當UE測量到滿足B2門限的GSM 小區(qū)后,則會向eNB上報B2事件,報告中會包含測量到的目標GSM小區(qū)的頻點和BSIC信息,隨后eNB會向UE下發(fā)B2事件中包含的GSM小區(qū)的切換命令, 完成一次成功的SRVCC 切換。修改參數(shù)如下: 3、弱覆蓋整治 VoLTE語音質量和覆蓋密切相關,MOS值與RSRP、SINR以及RSRQ之間呈正相關關系,通過大數(shù)據(jù)統(tǒng)計以及單小區(qū)驗證結果相符,增長趨勢一致。為了保持VOLTE通話質量優(yōu)勢,保證MOS >3.5,推薦的無線環(huán)境參數(shù)如下: RSRP> -105dbm,MOS> 3.5 RSRQ> -13,MOS> 3.5 SINR> 6,MOS約3.5 4、切換優(yōu)化 切換對VOLTE語音質量的影響,從大的分類來看: LTE系統(tǒng)內(nèi)切換 切換過程中,會造成語音包的時延和抖動增大,嚴重時還會造成丟包,所以會對MOS指標(無論是信令平臺還是路測)造成影響。 針對頻繁切換區(qū)域站點進行互操作參數(shù)調整,減少乒乓切換次數(shù),優(yōu)化MOS。 切換參數(shù)以及重選優(yōu)先級策略: 切換方式策略: SRVCC切換: SRVCC切換后UE的MOS體驗會下降,因此路測過程中一般都會盡量避免SRVCC;針對高ESRVCC點進行LTE覆蓋分析,從故障處理、鄰區(qū)漏配、室分泄露、天饋優(yōu)化等方面對LTE弱覆蓋問題進行優(yōu)化。 5、RRC重建立 RRC 重建立的目的是恢復RRC信令連接,減少掉線,但重建過程會帶來較長的業(yè)務面中斷時間,對VOLTE語音質量造成嚴重影響。 重建的發(fā)生往往意味著其他潛在的問題:比如鄰區(qū)漏配、RRC重配置錯誤、弱覆蓋、重疊覆蓋等。因此,重建的優(yōu)化原則是盡量減少重建的發(fā)生,而不是簡單提高重建的成功率。 重建問題一般用重建發(fā)生率和重建成功率來指示。??? Reconfiguration failure:UE在安全模式激活的狀態(tài)下,收到了重配置消息后如果對于重配置消息內(nèi)的信元無法匹配或兼容,則發(fā)起原因值為“reconfiguration failure”的重建。
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