隨著LED的主流應用從平板電視背光源進入到一般照明的市場，高亮度LED的成長可說是一片看好。Veeco副總裁Jim Jenson指出，根據Strategies Unlimited的調查，從2009年到2013年，LED在顯示器領域的復合年成長率（CAGR）達122%,在照明市場可達48%,整體來看則可達32%.目前LED成長的主要驅動力是電視，照明市場則是新興的應用領域。

　　「LED背光已滲透到各種主流的應用當中，尤其是筆電、PC顯示器和電視的市場，」Jim分析指出，在筆電的市場，由于LED具有省電和小型化的設計優勢，2009年時已有一半以上的筆電采用LED背光照明；PC顯示器是新興的LED背光應用領域，預測到了2012年時，LED在此市場的滲透率可達59%.

　　LED TV則是電視業者致力于開發的新型態電視，采用LED背光源的電視可以讓電視厚度做到小于1.5寸（不到4公分），亮度對比率可超過5,000,000:1,色域超過105 %,而且又省電。這些明顯的優勢讓三星、LG、夏普、新力、東芝等所有電視大廠都積極投入發展，也已有許多產品推出市場，預估今（2010）年會有很大的市場斬獲。

　　除了做為背光源，LED也開始在照明市場獲得重視。Jim指出，在建筑市場，因LED燈具的裝配彈性而持續成長；在一般照明市場，由于全球政府機構推動以LED取代傳統螢光燈及CFL燈的法案，市場一片看好；由于LED成本不斷下滑，也浮現出許多新興的照明應用。照明大廠飛利浦預估到了2015年時，一般照明市場中LED將取得一半的市占率，并創造1200億美元的驚人產值。

　　在照明應用上，LED發光效率也已超過100 lm/W,領先日光燈、燈泡和CFL等傳統燈具。由于發光效率提升，單一燈具需使用的LED數量愈來愈少，因此雖然LED燈具在成本上仍高于傳統燈具，但已愈來愈接近；在一些應用上，LED更已是最具成本效益的方案。

　　「不過，LED要被大眾市場接受的前提，是LED的亮度要再提升，成本也要持續下降，」以LED背光的應用為例，Jim強調LED背光模組的成本是其市占率成長的主要驅動力，今日背光模組的成本約180美元，若要在2012年時市占率有大幅的成長，其成本需降到大約100美元。而使LED背光模組成本能繼續下降的關鍵，則是LED的發光效率與制造上的良率與生產力。

　　MOCVD有助于提升良率和生產力

　　要持續提升發光效率，必須在晶片設計、光萃取技術、封裝方式和驅動效能等技術領域不斷進步。LED制造商想要滿足LED發光效率和成本藍圖，很顯然地必需采用先進的制程技術。Jim指出，有機金屬化學氣相磊晶（Metal-Organic Chemical Vapor Deposition;MOCVD）技術是決定LED亮度、良率和成本的關鍵性的一步，引進MOCVD技術將有助于改善制造商的資本效率和降低購置成本。

　　所謂的MOCVD是是在基板上成長半導體薄膜的一種方法，其中MO是指半導體薄膜成程中所采用的反應源（precursor）為金屬有機物，而CVD是指所成長的半導體薄膜的特性是屬于非晶形薄膜或是具有晶形的薄膜。對于LED來說，LED晶片由不同半導體材料的多層次架構構成，采用MOCVD會決定LED在色彩、亮度、電性和成本上的表現，是新一代LED制程的必要技術。

　　為了因應市場的需求，Veeco致力于開發MOCVD先進平臺技術。Jim指出，MOCVD的生長需對溫度與流動有精準的控制，而TurboDisc正是Veeco最先進的MOCVD反應室技術，能提供波長一致性、潔凈運作、GaN高生長率、適用于2 – 8寸晶圓的高度彈性等優勢。

　　「MOCVD對于良率和生產力的提升都有很大的幫助，」Jim表示：「自動化的制程能提供更高的產量，而潔凈化的運作則有助于提升良率。」

　　Veeco劃時代新平臺：TurboDisc K465i

　　Veeco在今年1月中推出了劃時代的新平臺：TurboDisc K465i,它是一個全自動化且具延展性的磊晶平臺，可生產以氮化鎵（GaN）為基礎材料的藍/綠光LEDs及藍光LDs產品。 K465i建構在之前推出并經過量產驗證的K465平臺上，除了采用了Veeco最先進的TurboDisc反應室技術之外，并包含了新的Uniform FlowFlange技術，可達到最高的磊晶圓一致性與極佳的制程重復性。

　　Jim表示，為了讓業者能快速的上手，K465i也提供簡化的機臺操作設計，業者可以輕易地自行調整機臺，使其達到快速量產的標準；同時在機臺維護保養之后，亦可迅速地回復到原先量產狀況。 K465i同時使用新的材質的加熱器，壽命能超過9個月以上，大大的提高機臺的使用率。因此，TurboDisc K465i GaN MOCVD是一款以最少的設備投資即可獲致最高投資收益的先進機臺。

　　在量產產能方面，K465i是一套已經過量產驗證的自動化生產平臺；不僅如此，其產能可高出一般機臺40~120%,并且在保養維護作業后，一開始運轉即可恢復到原量產階段。由于采用Veeco先進的TurboDisc反應室清潔技術，使得K465i每次保養維護的間隔時間可以延長，讓K465i的機臺運轉次數能在兩次保養期間達到最多。

　　此外，在生產良率最佳化方面，K465i可以讓磊晶產品在波長5nm bin的良率達到90%,并可將波長的一致性與每次運行的波長重復性提升改善25%,同時可將微粒子（particle）的產生數量降至最低，因此可以獲致極佳的生產良率表現。