制造集成電路的大多數(shù)工藝區(qū)域要求100級(空氣中每立方米內直徑大于等于0.5μm的塵埃粒子總數(shù)不超過約3500)潔凈室,在光刻區(qū)域,潔凈室要求10級或更高。
2024-03-20 12:36:00
56 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/C5/1B/wKgZomX6eNiAeDmfAAAh5M-qK4k786.png)
與正光刻膠相比,電子束負光刻膠會形成相反的圖案。基于聚合物的負型光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠則保留下來,從而形成負像。
2024-03-20 11:36:50
193 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/C5/18/wKgZomX6WoSAJ_o_AABHCGT3woM179.png)
使用國產(chǎn)貼片電感替代國外品牌有哪些優(yōu)勢 編輯:谷景電子 不同品牌電感的兼容替代一直都是比較受關注的一個話題,特別是最近幾年在很多行業(yè)使用國產(chǎn)電感替代國外品牌電感,更是體現(xiàn)了需求之大。不久前
2024-03-08 15:51:10
72 在曝光過程中,掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機的縮放比為1:1,分辨率可達到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復接觸和分離,隨著曝光次數(shù)的增加,會引起掩模版和光刻膠膜層損壞、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:37
88 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/C4/32/wKgaomXqfIOAXrVoAAAjTaMQqkU372.png)
利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發(fā)生性質變化,從而使光罩上得圖形復印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用。
2024-03-06 14:28:50
62 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/C3/BF/wKgaomXoDcWAHB8CAAAq9ySjlvA673.png)
PCM1750U-DUAL CMOS 18 BIT這款數(shù)模轉換芯片有國產(chǎn)替代嗎?國產(chǎn)替代是否會涉及專利權或者知識產(chǎn)權問題?
2024-03-05 18:46:33
光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:18
399 光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來定。比如對于需要長時間蝕刻以形成深孔的應用場景,較厚的光刻膠層能提供更長的耐蝕刻時間。
2024-03-04 10:49:16
131 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/C3/6A/wKgaomXlNx6AMNUjAAAza8SNHDw028.png)
電子束光刻(e-beam lithography,EBL)是無掩膜光刻的一種,它利用波長極短的聚焦電子直接作用于對電子敏感的光刻膠(抗蝕劑)表面繪制形成與設計圖形相符的微納結構。
2024-03-04 10:19:28
206 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/C3/68/wKgaomXlMH6AME8BAABpcyGodSg755.png)
國芯思辰,國產(chǎn)芯片替代
2024-02-29 10:04:43
85 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/C2/05/wKgZomXf5jaALRPZAAA-4WY3jcc402.png)
MABA-007159-000000的PINTOPIN國產(chǎn)替代 CH-BMA-7159-MA PDF資料
2024-02-27 10:58:49
國芯思辰,國產(chǎn)芯片替代
2024-02-27 09:51:53
106 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/B0/85/wKgaomVerfeAf53dAAA7ewcWyWE703.png)
國產(chǎn)深海萬米六維力傳感器引領卡脖子技術革新
2024-02-20 16:09:00
193 據(jù)吳中發(fā)布的最新消息,簽約項目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項目,該項投資高達15億元,旨在新建半導體光刻膠及其配套試劑的生產(chǎn)基地。
2024-01-26 09:18:43
207 本文將深入分析國產(chǎn)數(shù)字隔離器實現(xiàn)進口替代的關鍵點,探討其在技術、經(jīng)濟和市場等方面的優(yōu)勢,為推動國產(chǎn)數(shù)字隔離器更好地替代進口產(chǎn)品提供深入思考。
2024-01-19 16:40:02
170 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/BA/85/wKgaomWOjA2AcyGjAALHM5A5I4A203.png#pic_center)
光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料,是半導體制造中使用的核心電子材料之一。伴隨著晶圓制造規(guī)模持續(xù)提升,中國有望承接半導體
2024-01-19 08:31:24
340 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/89/15/wKgZomR4VviAfw6rAAAXZRIaLRI974.png)
對于工業(yè)軟件,多數(shù)人一直忽略了一個核心問題:我們真的需要做出大鱷們一樣厲害的軟件么?我們經(jīng)常講對標,到底應該對什么標?現(xiàn)在每天講突破“卡脖子”困局,講國產(chǎn)替代,于是,就想當然地對標國際先進軟件。
2024-01-14 09:29:56
431 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/BD/69/wKgaomWjOYeAQnt0AAAd3Mmfa8c591.jpg)
光刻膠主要下游應用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應用,占比30%。光刻膠在半導體制造應用占比24%,是第三達應用場景。
2024-01-03 18:12:21
346 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/BB/95/wKgaomWVM62ADvEkAAA3GiqnEac942.png)
在當今全球化的背景下,國產(chǎn)化替代正逐漸成為國家發(fā)展的重要戰(zhàn)略。在技術領域中,國產(chǎn)化替代的核心任務之一是推動國產(chǎn)工控主板的發(fā)展和替代進口產(chǎn)品。本文將探討國產(chǎn)化替代的重要意義,并分析國產(chǎn)工控主板國產(chǎn)
2024-01-02 15:33:12
204 所謂的“光刻膠”,即是在紫外線、電子束等輻射下,其溶解度會產(chǎn)生變化的耐腐蝕薄膜材料。作為光刻工藝中的關鍵要素,廣泛應用于晶圓和分立器件的精細圖案制作中。其品種繁多,此次漲價涉及的KrF 光刻膠則屬高級別光刻膠,將成為各廠商關注的焦點。
2023-12-28 11:14:34
379 光照條件的設置、掩模版設計以及光刻膠工藝等因素對分辨率的影響都反映在k?因子中,k?因子也常被用于評估光刻工藝的難度,ASML認為其物理極限在0.25,k?體現(xiàn)了各家晶圓廠運用光刻技術的水平。
2023-12-18 10:53:05
326 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/B7/D6/wKgZomV_tNqARoEfAAAOz-EjydI640.jpg)
國芯思辰,國產(chǎn)芯片替代
2023-12-16 10:22:06
179 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/B0/D0/wKgZomVYGKGABF_PAABeovgKZMs950.png)
勻膠是光刻中比較重要的一步,而旋涂速度是勻膠中至關重要的參數(shù),那么我們在勻膠時,是如何確定勻膠速度呢?它影響光刻膠的哪些性質?
2023-12-15 09:35:56
442 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/B5/87/wKgaomV7rkyAHKezAAARTuC2MZw934.png)
光刻膠類別的多樣化,此次漲價案所涉KrF光刻膠屬于高階防護用品,也是未來各地廠家的競爭焦點。當前市場中,光刻膠主要由東京大賀工業(yè)、杜邦、JSR、信越化學、住友化學及東進半導體等大型制造商掌控。
2023-12-14 15:20:36
408 近期,萬潤股份在接受機構調研時透露,其“年產(chǎn)65噸半導體用光刻膠樹脂系列”項目已經(jīng)順利投入運營。該項目旨在為客戶提供專業(yè)的半導體用光刻膠樹脂類材料。
2023-12-12 14:02:58
328 光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發(fā)生性質變化,從而使光罩上得圖形復印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:24
1334 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/B4/2D/wKgZomVtKWyAPvE4AAA4Rr-z61E488.png)
我國作為人口大國,人均醫(yī)療資源相較于發(fā)達國家仍有不足,醫(yī)療健康產(chǎn)業(yè)還有很大提升空間。卡脖子的現(xiàn)象在醫(yī)療器械中十分明顯,這也是醫(yī)療產(chǎn)業(yè)重點需要解決的。“國產(chǎn)化”便是有效的解決方案。
2023-12-01 09:45:10
269 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/B2/1E/wKgaomVpOyiAWTLVAAAKGh4Z5Qk952.jpg)
據(jù)報道,韓國SK集團于2020年斥資400億韓元收購當?shù)劐\湖石化的電子材料業(yè)務,收購后成立的新子公司SK Materials Performance(SKMP)已開發(fā)出一種高厚度KrF光刻膠,并通過了SK海力士的性能驗證,這將有利于SK海力士3D NAND閃存的技術開發(fā)。
2023-11-29 17:01:56
433 KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進行光刻的光刻膠。248nmKrF光刻技術已廣 泛應用于0.13μm工藝的生產(chǎn)中,主要應用于150 , 200和300mm的硅晶圓生產(chǎn)中。
2023-11-29 10:28:50
283 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/B1/BB/wKgaomVmpMiABBoJAABtvKUPkow175.png)
據(jù)悉,skmp開發(fā)的新型KrF光刻膠的厚度為14至15米,與東進半導體(DONGJIN SEMICHEM)向三星提供的產(chǎn)品相似。日本jsr公司的類似產(chǎn)品厚度只有10微米。
2023-11-29 10:02:52
258 為了生產(chǎn)高純度、高質量的光刻膠,需要高純度的配方原料,例如光刻樹脂,溶劑PGMEA…此外,生產(chǎn)過程中的反應釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測也是至關重要的控制環(huán)節(jié)。例如,2019年,某家半導體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染,導致上萬片12吋晶圓報廢
2023-11-27 17:15:48
550 國芯思辰,國產(chǎn)芯片替代
2023-11-24 10:18:47
175 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/B2/7F/wKgZomVgCASAAz_WAACI4jdIftE705.png)
20日,西隴科學(株)發(fā)布公告稱,該公司沒有生產(chǎn)銷售礦產(chǎn)品。公司生產(chǎn)及銷售用于清洗劑、顯影液、剝離液等的光刻膠,占公司營業(yè)收入的比例,是目前用于上述用途的光刻膠配套。
2023-11-21 14:54:57
315 光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:11
570 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/AD/FF/wKgaomVR94eAeaRHAAARFLv3TbA597.jpg)
國芯思辰,國產(chǎn)芯片替代
2023-11-10 09:52:59
317 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/AF/33/wKgZomVNjPGAYDPEAABJUy40MHg652.png)
EUV 超薄 (≤10nm)尺度的光刻膠:隨著特征尺寸的縮小,光刻膠分子成分成為特征尺寸的一部分。構成光刻膠的分子必須是單組分、小的構建塊,以防止聚集和分離。新的設計結構將需要超薄光刻膠和底層組合。
2023-11-06 11:23:15
402 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/AC/A2/wKgaomVIXGaABoVBAAJIyjwo5gQ408.png)
股,募集資金人民幣850,000,002.24元,用于瑞紅蘇州先進制程工藝半導體光刻膠及配套試劑業(yè)務的研發(fā)、采購、生產(chǎn)和銷售及相關投資。
2023-11-02 10:59:26
555 生產(chǎn)光刻膠的原料包括光引發(fā)劑(光增感劑、光致產(chǎn)酸劑幫助其更好發(fā)揮作用)、樹脂、溶劑和其他添加劑等,我國由于資金和技術的差距,如感光劑、樹脂等被外企壟斷,所以光刻膠自給能力不足。
2023-11-01 15:51:48
138 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/AB/D9/wKgaomVCBDeAMCtxAAAqiGHLmHY321.png)
光刻是半導體加工中最重要的工藝之一,決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時間的40%-50%,占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關鍵耗材,其質量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關。
2023-10-26 15:10:24
359 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/AA/79/wKgaomU6Ec6AX4vrAAAEVb1bTrs777.jpg)
金屬圖案的剝離方法已廣泛應用于各種電子器件的制造過程中,如半導體封裝、MEMS和LED的制造。與傳統(tǒng)的金屬刻蝕方法不同的是,采用剝離法的優(yōu)點是節(jié)省成本和工藝簡化。在剝離過程中,經(jīng)過涂層、曝光和開發(fā)過程后,光刻膠會在晶片上形成圖案。
2023-10-25 10:40:05
185 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/AB/F1/wKgZomU4fz6AOC3VAABcL-cH0D0565.png)
國芯思辰,國產(chǎn)芯片替代
2023-10-25 10:15:48
740 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/AB/30/wKgZomUx3-CAR0BJAAAoj0DsipA341.png)
光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上,通過光的照射,光刻膠的成分發(fā)生化學反應,從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關,而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15
271 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/AB/B6/wKgZomU3Pg2ADqcwAAAOwctILhY938.jpg)
客戶做小功率電源,目前有一款副邊反激控制器型號 5L0380R目前價格處于高位,客戶為了降本增效考慮國產(chǎn)替代,具體參數(shù)詳見附件,望各位大神不另賜教!
*附件:ON-KA5L0380R.pdf
2023-10-23 17:21:16
國芯思辰,國產(chǎn)芯片替代
2023-10-13 10:17:07
425 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/A9/B9/wKgZomUoqJ-AAM6VAADpoMn85xA449.png)
黃光的波長遠離UV范圍,因此不會引起光刻膠的意外曝光。黃光燈通常不含有紫外線,從而保護光敏材料免受不必要的曝光。
2023-10-11 15:14:33
746 為解決國產(chǎn)化存儲的"卡脖子"問題,滿足數(shù)據(jù)存儲自主可控的核心需求,龍芯中科技術股份有限公司聯(lián)合百代(上海)數(shù)據(jù)技術有限公司(以下簡稱“百代存儲”)打造基于龍架構的新一代國產(chǎn)統(tǒng)一存儲解決方案。
2023-10-09 14:49:36
423 光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一,是電子產(chǎn)業(yè)的關鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹脂三種主要成分組成,是一種具有光化學敏感性的混合液體。其利用光化學反應,經(jīng)曝光、顯影等光刻工藝,將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上,是用于微細加工技術的關鍵性電子化學品。
2023-10-09 14:34:49
1674 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/A9/28/wKgZomUjoA-AUu2SAAA4Rr-z61E876.png)
MCU國產(chǎn)替代選型合集來了,干貨不容錯過!
2023-09-19 18:01:52
1836 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/A3/CD/wKgZomUJcc6AeT0-AABAOlpf1m4082.png)
EUV光刻膠材料是光敏物質,當受到EUV光子照射時會發(fā)生化學變化。這些材料在解決半導體制造中的各種挑戰(zhàn)方面發(fā)揮著關鍵作用,包括提高靈敏度、控制分辨率、減少線邊緣粗糙度(LER)、降低釋氣和提高熱穩(wěn)定性。
2023-09-11 11:58:42
349 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/A2/70/wKgZomT-kNqAG1zQAAAo7yDWcKk896.png)
華為 Mate 60 Pro 的發(fā)售引起了人們對其搭載處理器的關注,而根據(jù)專業(yè)人士對新款手機的拆解結果顯示,該手機搭載了麒麟9000s處理器,這個“新型”處理器是否意味著華為芯片“卡脖子”的問題得到解決呢?
2023-09-06 14:44:03
1695 “卡脖子”的問題已經(jīng)得到突破? 北京郵電大學教授、中國信息經(jīng)濟學會常務副理事長呂廷杰表示從目前國內外各個機構對華為新手機的拆解來看,它的麒麟9000s芯片,包括其它10000多種部件,應該說基本實現(xiàn)了國產(chǎn)化。如果真的全部實現(xiàn)國產(chǎn)化
2023-09-06 10:12:48
1664 規(guī)模化、國產(chǎn)化替代。并且依托深圳這樣一個外向型經(jīng)濟的全國橋頭堡,實現(xiàn)了自主導航定位芯片的出口,真正推動了我們自主的北斗走向全球,踐行了“中國的北斗,世界的北斗”的國家發(fā)展目標。
02 小型化和低功耗
2023-09-04 14:43:44
仿真領域的成績。 積鼎科技受邀,基于“積鼎自研CFD軟件的成果和應用”作特邀報告。“積鼎專注于打造好用、易用的國產(chǎn)流體仿真軟件,著重解決2個突出問題,一是,國內流體仿真技術卡脖子問題;其次是,軟件的正版化問題。積鼎經(jīng)過10多年的沉淀,對標國外壟斷
2023-09-01 15:32:30
402 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/A2/AA/wKgaomTxk3SAYMASAFwpA6j14zw046.png)
在芯片原子鐘領域打破國外壟斷,突破關鍵器件“卡脖子”問題,滿足國內該技術產(chǎn)品在相關領域的迫切需求。 芯片原子鐘屬于電子信息技術中時間頻率技術領域的核心基礎器件,是使用微機電系統(tǒng)(MEMS)技術制造的緊湊型低功耗原子鐘
2023-08-23 21:08:55
520 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/94/FC/wKgaomTmBO6AAQnXAABtqHjXD80324.png)
湖州國資消息,寧波微芯新材料科技有限公司的半導體材料生產(chǎn)基地項目總投資3.5億元人民幣,用地35畝,年產(chǎn)1000噸的電子級光刻膠原材料(光刻膠樹脂、高等級單體等核心材料)基地建設。”全部達到,預計年產(chǎn)值可達到約5億元。
2023-08-21 11:18:26
942 會上,經(jīng)開區(qū)分別同4家企業(yè)就功率器件IC封測項目、超級功率電池及鋰電池PACK產(chǎn)線項目、氫能產(chǎn)業(yè)集群項目、高性能電池項目進項現(xiàn)場簽約。會議還舉行了《2023勢銀光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展藍皮書》發(fā)布儀式。
2023-08-16 15:30:38
483 英偉達a100有國產(chǎn)替代嗎? 目前尚未出現(xiàn)明確可替代英偉達A100的國產(chǎn)產(chǎn)品,但中國國內的企業(yè)正在積極推進相關領域的研發(fā)和生產(chǎn)。例如,中國科技巨頭華為正在開發(fā)自主研發(fā)的AI芯片,其已發(fā)布的昇騰910
2023-08-08 15:37:12
3468 光刻是一種圖像復制技術,是集成電路工藝中至關重要的一項工藝。簡單地說,光刻類似照相復制方法,即將掩膜版上的圖形精確地復制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽膜上面,然后在光刻膠或其他掩蔽膜的保護下對硅片進行離子注入、刻蝕、金屬蒸鍍等。
2023-08-07 17:52:53
1480 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/8F/A1/wKgZomTQuleAYQYqAABDEeHU7eQ475.jpg)
國芯思辰,國產(chǎn)芯片替代
2023-08-07 11:45:21
700 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/8F/92/wKgaomTQaM6ATb0vAAAmpjHleb8192.png)
高新技術企業(yè)也一直在追求技術創(chuàng)新和突破。 現(xiàn)如今,我國的軍工業(yè)迅速崛起,涌現(xiàn)了一批優(yōu)秀的國產(chǎn)品牌,破解了國外“卡脖子”的難題。 就拿騰方中科自主研發(fā)的斷連塊來講,一種信號通斷利器,此前一直被美國史陶比爾和瑞士壟
2023-08-02 17:12:34
474 ![](https://file1.elecfans.com//web2/M00/8E/D7/wKgZomTKHgKAfLPOAAZ6OlGPBc8630.jpg)
7月28日下午,深圳工信局最新發(fā)文,推出3年行動計劃,引導、推動開源鴻蒙、歐拉產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。 操作系統(tǒng)是我國關鍵“卡脖子”技術之一,但推動國產(chǎn)系統(tǒng)鴻蒙歐拉的崛起,據(jù)相關分析,不止是為了手機
2023-08-01 08:45:44
508 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/8E/92/wKgaomTIYqaAdp9yAAAvk0SKw2A023.png)
近日,備受矚目的2023國產(chǎn)化替代品大賽圓滿落幕。御芯微以自主研發(fā)產(chǎn)品測溫傳感通信一體化芯片UC8288和模組UCM200系列斬獲“國產(chǎn)化替代產(chǎn)品先鋒獎”。這是對御芯微不懈努力和持續(xù)創(chuàng)新的肯定,也是
2023-07-31 23:04:06
442 ![](https://file.elecfans.com/web2/M00/7D/31/pYYBAGN63p6AI9IuAAAos9v_lGw650.png)
國芯思辰,國產(chǎn)芯片替代
2023-07-22 10:30:38
410 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/89/3B/wKgZomR-j7qAXn64AADiciEbmGU530.png)
但現(xiàn)在的客觀情況是國家算力供給面臨著嚴重的“卡脖子”問題,即美國限制高算力芯片對華出口,而且可能進一步收緊出口限制。歸根結底其動機要限制中國得高算力芯片、數(shù)字經(jīng)濟和人工智能等方面的發(fā)展。
2023-07-17 16:38:57
502 芯視界 來源:全球半導體觀察 7月12日,教育部部長懷進鵬在全國高校科技創(chuàng)新暨優(yōu)秀科研成果獎表彰大會上表示,將針對核心技術“卡脖子”問題,加強組織科研攻關。 懷進鵬指出,教育部將圍繞集成電路、工業(yè)母機、儀器儀表、生物醫(yī)
2023-07-17 13:06:20
434 近年來,要加快科技自立自強步伐,解決外國“卡脖子”問題。以成為中國高科技產(chǎn)業(yè)重要問題。卡脖子看上去是一個技術節(jié)點,是一個孤立問題。但實際上,卡脖子是由于系統(tǒng)性失靈所造成的,它涉及到多家供應商
2023-07-11 08:39:01
730 光刻膠(光敏膠)進行光刻,將圖形信息轉移到基片上,從而實現(xiàn)微細結構的制造。光刻機的工作原理是利用光學系統(tǒng)將光線聚焦到光刻膠上,通過掩膜版(也稱為光刻掩膜)上的圖形
2023-07-07 11:46:07
JSR 是全球僅有的四家 EUV 光刻膠供應商之一,其產(chǎn)品是制造先進芯片必不可少的原料。
2023-06-27 15:51:21
597 國芯思辰,國產(chǎn)芯片替代
2023-06-19 10:30:13
734 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/8A/0C/wKgZomSPvbGASAXLAAAzG6tociQ680.png)
來源:欣奕華材料 據(jù)欣奕華材料官微消息,近日,國內光刻膠龍頭企業(yè)阜陽欣奕華材料科技有限公司(以下簡稱“阜陽欣奕華”)完成超5億元人民幣 D 輪融資。 據(jù)悉,本輪融資由盛景嘉成母基金
2023-06-13 16:40:00
552 卷。 海洋監(jiān)測儀器裝備是關心海洋、認識海洋、經(jīng)略海洋的基礎保障和重要前提,雖然我國海洋監(jiān)測儀器裝備技術水平與業(yè)務化應用近年來進步顯著,但相比海洋發(fā)達國家仍在“卡脖子”技術、關鍵設備研制方面存在一定差距。 本文從全球海洋立
2023-06-13 09:35:07
336 國芯思辰,國產(chǎn)芯片替代
2023-06-05 11:19:13
560 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/89/32/wKgZomR9VCmAbVmoAABSTZtmJa0636.png)
國芯思辰,國產(chǎn)芯片替代
2023-06-05 09:26:54
425 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/89/28/wKgZomR6oPSAbo-MAACh9d7DwVk006.png)
通常,光刻是作為特性良好的模塊的一部分執(zhí)行的,其中包括晶圓表面制備、光刻膠沉積、掩模和晶圓的對準、曝光、顯影和適當?shù)目刮g劑調節(jié)。光刻工藝步驟需要按順序進行表征,以確保模塊末端剩余的抗蝕劑是掩模的最佳圖像,并具有所需的側壁輪廓。
2023-06-02 16:30:25
418 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/89/23/wKgaomR5qfCAPREHAAFUS3Fe37g436.png)
國芯思辰,國產(chǎn)芯片替代
2023-06-02 10:28:12
641 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/89/1C/wKgZomR5U7iAFQfIAAAgipGpE4I461.png)
CTD 傳感器產(chǎn)品, 短期內又無法獲得相應的替代儀器, 嚴重影響了產(chǎn)品應用,“卡脖子”之痛油然而生。? 據(jù)2020年由傳感器國家工程研究中心等四個行業(yè)核心機構,聯(lián)合發(fā)布的權威報告《中國傳感器發(fā)展藍皮書》,特別寫到中國高端傳感器的應用市場幾乎被國外壟斷,
2023-06-02 08:39:22
686 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/89/1D/wKgZomR5XyGAdXNyAABgvBODE9M665.png)
國芯思辰,國產(chǎn)芯片替代
2023-05-30 10:53:48
497 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/88/D8/wKgZomR1VVaAe1chAAAk_1PsASE998.png)
來源:每日經(jīng)濟新聞,記者:程雅 編輯:張海妮,謝謝 編輯:感知芯視界 5月24日晚,國產(chǎn)光刻膠大廠彤程新材發(fā)布公告稱,于近日收到實控人Zhang Ning與Liu Dong Sheng的通知,二人
2023-05-29 09:33:44
187 感光速度:即光刻膠受光照射發(fā)生溶解速度改變所需的最小能量,感光速度越快,單位時間內芯片制造的產(chǎn)出越高,經(jīng)濟效益越好,另-方面,過快的感光速度會對引起工藝寬容度的減小,影響工藝制程的穩(wěn)定性。
2023-05-25 09:46:09
561 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/88/A9/wKgZomRuvtaAbfGVAAAj7hKu2fQ380.png)
STM32系列國產(chǎn)替代GD32芯片選型手冊
2023-05-22 16:39:01
9 改善之后的工藝與之前最大的區(qū)別在于使用光刻膠充當濺射的掩膜,在電鍍之前將電路圖形高精度的制備出來,不再進行濕法刻蝕,避免了側腐蝕對線條精度和膜基結合力的影響,同時,基板只浸入丙酮中一次以去除光刻膠,避免了大量溶液的使用
2023-05-16 09:40:35
1218 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/82/CC/wKgaomRi4AaAONeCAABCO53_sOE959.png)
不僅是國內的網(wǎng)友這么認為,唯光刻機論在海外也很有市場,似乎大部分網(wǎng)友都是這樣想的,已經(jīng)到了神化ASML的地步了,只要提到芯片制造就會強調光刻機會卡脖子,而有了光刻機,臺積電這樣的公司就能隨便復制一樣。
2023-05-15 11:10:27
1112 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/82/C1/wKgaomRhoviANqxDAABNPgT4_qk963.png)
在集成電路制造領域,如果說光刻機是推動制程技術進步的“引擎”,光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:38
1119 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/82/BA/wKgaomRfBRGAUCF5AAAmZdztUW8173.png)
光刻膠可以通過光化學反應,經(jīng)曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩(掩模版)轉移到待加工基片上。依據(jù)使用場景,這里的待加工基片可以是集成電路材料,顯示面板材料或者印刷電路板。
2023-05-11 16:10:49
2775 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/82/AD/wKgZomRcpAaAbzJCAAAmZdztUW8577.png)
2023年中國光刻機現(xiàn)狀是什么樣的呢?自從2018年以來,我國開始被美國各種手段制裁,光刻機被卡脖子,美國不讓荷蘭賣先進的光刻機給我們,這也讓這些年來無數(shù)國人關注光刻機的研發(fā)進度。
2023-05-10 16:24:15
21220 晶圓廠通常使用光刻膠來圖案化抗蝕刻硬掩模,然后依靠硬掩模來保護晶圓。但是,如果光刻膠太薄,它可能會在第一個轉移步驟完成之前被侵蝕掉。隨著光刻膠厚度的減小,底層厚度也應該減小。
2023-04-27 16:25:00
689 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/82/5A/wKgZomRKMhaAb5J_AAAPn1MgHW0258.jpg)
根據(jù)維基百科的定義,光刻是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構,然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓,還可以是其他金屬層、介質層,例如玻璃、SOS中的藍寶石。
2023-04-25 11:11:33
1243 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/82/3C/wKgaomRHQuyAIsh6AABCjUb1_2s406.jpg)
清洗硅片(Wafer Clean)
清洗硅片的目的是去除污染物去除顆粒、減少針孔和其它缺陷,提高光刻膠黏附性
基本步驟:化學清洗——漂洗——烘干。
2023-04-25 11:09:40
3858 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/82/3C/wKgZomRHQuyAUr7eAABV6SH-fKs136.jpg)
光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發(fā)生性質變化,從而使光罩上得圖形復印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-04-25 11:05:32
2260 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/82/3C/wKgZomRHQrCAdg6yAACV9qZiLn4372.jpg)
中國動力電池產(chǎn)業(yè)零碳化轉型,已經(jīng)刻不容緩。
2023-04-23 09:23:05
661 151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留,找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
2018年,我國中央科技新聞媒體《科技日報》發(fā)表了系列文章,報道制約我國工業(yè)發(fā)展的35項“卡脖子”的關鍵技術, 其中包括芯片、傳感器、光刻機、激光雷達等關鍵技術 。引起了廣泛關注與討論。 如今
2023-04-19 14:54:38
8817 新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開發(fā),必須通過精心設計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn),imec 最近開發(fā)了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:12
1164 此前該公司指出,公司已建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠生產(chǎn)線、年產(chǎn)20噸ArF浸沒式光刻膠生產(chǎn)線及年產(chǎn)45噸的光刻膠配套高純試劑生產(chǎn)線,具備ArF光刻膠及配套關鍵組分材料的生產(chǎn)能力,目前公司送樣驗證的產(chǎn)品均由該自建產(chǎn)線產(chǎn)出。
2023-04-11 09:25:32
920 、售后等多方面原因,傳感器市場出現(xiàn)被外企“卡脖子”現(xiàn)象,漲價、缺芯、無貨等狀況頻出。為此,國內眾企業(yè)開始響應“國產(chǎn)替代”號召,力圖打破傳感器國外壟斷。 芯森電子AN3V系列霍爾電流傳感器,就是響應“國產(chǎn)替代”的產(chǎn)品。此產(chǎn)品可原位替代
2023-04-04 13:17:30
1195 ![](https://file.elecfans.com/web2/M00/9D/1F/pYYBAGQrssKAeh6AAACznc4mNZA004.png)
。 但由于國際形式及價格、售后等多方面原因,傳感器市場出現(xiàn)被外企“卡脖子”現(xiàn)象,漲價、缺芯、無貨等狀況頻出。為此,國內眾企業(yè)開始響應“國產(chǎn)替代”號召,力圖打破傳感器國外壟斷。 芯森電子AN1V系列霍爾電流傳感器,就是響應“國產(chǎn)替代”的產(chǎn)品。此產(chǎn)品
2023-04-03 13:38:11
571 ![](https://file.elecfans.com/web2/M00/9C/E5/pYYBAGQqZgKAXCokAACZqVe32rg526.png)
實現(xiàn)“自主可控”非常重要,突破歐美的卡脖子。我國在高端的半導體集成電路、工業(yè)軟件、高端機床裝備、電腦操作系統(tǒng)、集成電路架構IP核、EDA軟件等高新技術領域的國產(chǎn)替代戰(zhàn)略,是要長期投入長期堅持的。金航標電子薩科微半導體都屬于這一輪
2023-03-25 14:32:52
315 ![](https://file.elecfans.com/web2/M00/9B/12/pYYBAGQelUWAbFVTAABKij8zhXA442.png)
光刻是將設計好的電路圖從掩膜版轉印到晶圓表面的光刻膠上,通過曝光、顯影將目標圖形印刻到特定材料上的技術。光刻工藝包括三個核心流程:涂膠、對準和曝光以及光刻膠顯影,整個過程涉及光刻機,涂膠顯影機、量測設備以及清洗設備等多種核心設備,其中價值量最大且技術壁壘最高的部分就是光刻機。
2023-03-25 09:32:39
4950 根據(jù)SEMI數(shù)據(jù),2020年全球晶圓制造材料中,硅片占比最高,為35%;電子氣體排名第2,占比13%;掩膜版排名第3,占比12%,光刻膠占比6%;光刻膠配套材料占比8% ;濕電子化學品占比7%;CMP拋光材料占比6%;靶材占比2%。
2023-03-25 09:30:54
4119 芯片產(chǎn)業(yè)產(chǎn)能過剩:韓國統(tǒng)計廳發(fā)布的數(shù)據(jù)顯示,1月韓國芯片制造商的芯片庫存與銷售比達到265.7%,創(chuàng)下26年來的最高值。如果上游材料持續(xù)被日本卡脖子,韓國芯片產(chǎn)業(yè)的日子就更難過了。
2023-03-23 09:32:58
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