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正業(yè)科技發(fā)明專利“一種激光能量調(diào)節(jié)裝置以及激光微加工設(shè)備”榮獲中國專利優(yōu)秀獎

電子工程師 ? 來源:lp ? 2019-03-27 14:13 ? 次閱讀

近日,正業(yè)科技發(fā)明專利“一種激光能量調(diào)節(jié)裝置以及激光微加工設(shè)備”(專利號:ZL201610080151.1)榮獲第二十屆中國專利優(yōu)秀獎,此次獎項是繼正業(yè)科技X-Ray產(chǎn)品系列首獲國家專利獎之后,在激光智能裝備系列再獲此殊榮。

據(jù)悉,中國專利獎頒獎大會由國家知識產(chǎn)權(quán)局和世界知識產(chǎn)權(quán)組織共同主辦,旨在表彰推動技術(shù)(設(shè)計)創(chuàng)新和促進經(jīng)濟社會發(fā)展做出突出貢獻的專利權(quán)人和發(fā)明人(設(shè)計人),是我國政府部門針對專利領(lǐng)域設(shè)立的唯一國家級政府獎項,也是專利行業(yè)的最高獎項。

近年來,正業(yè)科技聚焦光電檢測自動化解決方案,相繼推出了“兩光”(激光+X光)等檢測自動化、智能制造、智能化生產(chǎn)線等產(chǎn)品及服務(wù)和解決方案,在面向PCB/FPC、鋰電等領(lǐng)域取得廣泛應(yīng)用。

發(fā)明專利:一種激光能量調(diào)節(jié)裝置以及激光微加工設(shè)備

激光微加工對激光能量穩(wěn)定性的要求非常高,需要激光功率保持持續(xù)穩(wěn)定。現(xiàn)有的激光能量補償調(diào)節(jié)裝置只能通過小功率探頭106采樣脈沖激光,具有以下缺點:采樣需較長時間;需要在一定時間內(nèi)多次采集脈沖信號進行計算,但無法確定每個脈沖信號是否穩(wěn)定,因此計算得出的功率平均值并不能真實反映單脈沖能量穩(wěn)定性及一致性。

公司發(fā)明的裝置能夠在微加工過程中對激光脈沖能量進行調(diào)節(jié),提高了調(diào)節(jié)速度及準確度。此外,這一發(fā)明還提供一種包括上述調(diào)節(jié)裝置的激光微加工設(shè)備,能夠通過能量調(diào)節(jié)實現(xiàn)打孔、切割、焊接等功能,最終實現(xiàn)精密微加工。

獲獎專利技術(shù)成果產(chǎn)業(yè)化的部分激光產(chǎn)品

UV激光打孔機(JG23M)

對雙面覆銅箔進行盲孔加工以及HDI板開銅窗加工,打盲孔最小孔徑可達50μm,精度可達±20um,采用先進的飛行鉆孔技術(shù),大大提高加工品質(zhì)和效率。

UV激光切割機(JG18)

適用于覆蓋膜(CVL)、柔性板(FPC)、軟硬結(jié)合板(RF)和薄多層板的切割成形,以及開窗和揭蓋,可用于切割各種基材。大臺面,加工幅面大;加工前預(yù)覽功能,避免切板報廢。

皮秒激光切割機(JG32)

適用于覆蓋膜(CVL)、柔性板(FPC)、軟硬結(jié)合板(RF)和薄多層板的切割成形,還可用于切割各種基材。真正冷加工,基本無炭化;雙臺面,效率高;相對納秒加?,切割速度可以提?數(shù)倍。

PCB二維碼全自動激光打標(biāo)機

將原料采購、生產(chǎn)過程和工藝等信息自動生成二維碼,并標(biāo)刻在PCB/FPCB表面,實現(xiàn)對產(chǎn)品的追溯和管理;精度?,速度快,性能穩(wěn)定;無耗材,環(huán)保無污染,免維護。

多年來,正業(yè)科技強化知識產(chǎn)權(quán)創(chuàng)造,對核心技術(shù)、重點項目、產(chǎn)品專利布局,實現(xiàn)專利質(zhì)量和數(shù)量“并駕齊驅(qū)”,知識產(chǎn)權(quán)事業(yè)取得驕人成績。

迄今為止,正業(yè)科技已累計申請專利750余件,授權(quán)專利近500件,授權(quán)發(fā)明專利100余件。

部分激光類發(fā)明專利證書

丨左右滑動查看更多圖片丨

憑借雄厚的科研實力和扎實的知識產(chǎn)權(quán)工作,正業(yè)科技先后獲評國家知識產(chǎn)權(quán)優(yōu)勢企業(yè)、省知識產(chǎn)權(quán)優(yōu)勢企業(yè)和東莞市專利優(yōu)勢企業(yè),并入選了東莞市知識產(chǎn)權(quán)保護協(xié)會會長單位。

榮譽證書

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未來,在國家對知識產(chǎn)權(quán)的重視與扶持下,正業(yè)科技將繼續(xù)完善知識產(chǎn)權(quán)管理,加強核心技術(shù)研發(fā),提升自主創(chuàng)新能力,推動專利技術(shù)成果產(chǎn)業(yè)化,創(chuàng)造出更多的經(jīng)濟和社會效益,促進企業(yè)高質(zhì)量發(fā)展,助力“科技強國”建設(shè)。

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原文標(biāo)題:【企業(yè)動態(tài)】正業(yè)科技再次榮獲中國專利優(yōu)秀獎

文章出處:【微信號:pci-shanghai,微信公眾號:CPCA印制電路信息】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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