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最全對比!2.5D vs 3D封裝技術(shù)

半導(dǎo)體芯科技SiSC ? 來源:蘇州硅時(shí)代 ? 作者:蘇州硅時(shí)代 ? 2024-12-25 18:34 ? 次閱讀

來源:蘇州硅時(shí)代

2.5D和3D封裝技術(shù)不僅為電子產(chǎn)品的高集成度、小尺寸和低成本提供了強(qiáng)有力的支持,更在推動整個(gè)電子產(chǎn)業(yè)的進(jìn)步中扮演著不可或缺的角色。那么,2.5D和3D封裝技術(shù)到底有何異同?它們又是如何影響我們的生活和工作的呢?

一、什么是2.5D封裝技術(shù)?

2.5D封裝技術(shù)是一種先進(jìn)的異構(gòu)芯片封裝技術(shù),它巧妙地利用中介層(Interposer)作為多個(gè)芯片之間的橋梁,實(shí)現(xiàn)高密度線路連接,并最終集成為一個(gè)封裝體。這個(gè)中介層,就像是一座連接不同島嶼的橋梁,它允許不同工藝、不同功能的芯片通過它進(jìn)行高效的信號傳輸和數(shù)據(jù)交換。

中介層可以由硅、玻璃或其他材質(zhì)構(gòu)成,其內(nèi)部可以通過硅通孔(TSV)、玻璃通孔(TGV)等技術(shù)實(shí)現(xiàn)電氣連接。這些通孔就像是一條條隱藏在中介層內(nèi)部的“高速公路”,使得信號能夠高速、穩(wěn)定地在不同芯片之間傳輸。與傳統(tǒng)的SoC(System on Chip)系統(tǒng)級芯片相比,2.5D封裝技術(shù)具有顯著的成本優(yōu)勢、更高的產(chǎn)量、更低的技術(shù)突破成本和更好的可靠性。

2.5D封裝技術(shù)的出現(xiàn),解決了傳統(tǒng)SoC在集成度、功耗和散熱等方面的瓶頸問題。通過將不同工藝節(jié)點(diǎn)的芯片進(jìn)行異構(gòu)集成,2.5D封裝技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)更高效的資源利用和更靈活的設(shè)計(jì)。此外,它還允許使用不同材料、不同工藝的芯片進(jìn)行集成,從而進(jìn)一步提高了系統(tǒng)的性能和可靠性。

在實(shí)際應(yīng)用中,2.5D封裝技術(shù)已經(jīng)取得了顯著的成果。例如,英特爾的EMIB(Embedded Multi-die Interconnect Bridge)技術(shù)就是一種典型的2.5D封裝技術(shù)。它通過將多個(gè)芯片通過中介層進(jìn)行連接,實(shí)現(xiàn)了高性能計(jì)算和低功耗的平衡。臺積電的CoWoS(Chip-on-Wafer-on-Substrate)技術(shù)和三星的I-Cube技術(shù)也是2.5D封裝技術(shù)的代表。這些技術(shù)不僅提高了系統(tǒng)的集成度和性能,還降低了成本和功耗,為電子產(chǎn)品的發(fā)展注入了新的活力。

二、什么是3D封裝技術(shù)?

如果說2.5D封裝技術(shù)是異構(gòu)集成的橋梁,那么3D封裝技術(shù)就是垂直互連的巔峰。它通過在芯片內(nèi)部直接制作TSV(硅通孔),實(shí)現(xiàn)了芯片之間的垂直互連。這種垂直互連的方式不僅提高了系統(tǒng)的集成度,還使得芯片之間的信號傳輸更加高效、穩(wěn)定。

然而,3D封裝技術(shù)的實(shí)現(xiàn)過程卻異常復(fù)雜。它涉及到深硅刻蝕、絕緣層沉積、阻擋層/種子層制備、電鍍填充等一系列工藝流程。這些工藝流程不僅要求極高的精度和穩(wěn)定性,還需要昂貴的設(shè)備和專業(yè)的技術(shù)人員。因此,3D封裝技術(shù)的設(shè)計(jì)和制造成本都相對較高,技術(shù)難度也較大。

盡管如此,3D封裝技術(shù)仍然以其獨(dú)特的優(yōu)勢吸引了眾多企業(yè)和研究機(jī)構(gòu)的關(guān)注。與2.5D封裝技術(shù)相比,3D封裝技術(shù)能夠提供更高的集成度和更緊密的芯片間互連。這使得系統(tǒng)在性能、功耗和散熱等方面都取得了顯著的提升。此外,3D封裝技術(shù)還可以實(shí)現(xiàn)更小的封裝尺寸和更低的成本,為電子產(chǎn)品的小型化和輕量化提供了有力的支持。

在實(shí)際應(yīng)用中,3D封裝技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于高性能處理器、存儲器等領(lǐng)域。例如,英特爾和臺積電的一些高端處理器就采用了3D封裝技術(shù)。這些處理器通過垂直互連的方式將多個(gè)芯片集成在一起,實(shí)現(xiàn)了高性能和低功耗的平衡。此外,3D封裝技術(shù)還在存儲器領(lǐng)域取得了顯著的成果。通過將多個(gè)存儲器芯片進(jìn)行垂直堆疊和互連,3D封裝技術(shù)實(shí)現(xiàn)了大容量、高速度和低功耗的存儲器解決方案。

三、2.5D與3D封裝技術(shù)如何選擇?

盡管2.5D和3D封裝技術(shù)在技術(shù)上有許多相似之處,但它們在設(shè)計(jì)、制造過程、成本和集成度等方面卻存在顯著的差異。

設(shè)計(jì)方面,2.5D封裝技術(shù)通常通過中介層進(jìn)行布線和打孔,而3D封裝技術(shù)則直接在芯片上打孔和布線。這使得3D封裝技術(shù)在集成度和性能方面更具優(yōu)勢,但也帶來了更高的設(shè)計(jì)和制造成本。

制造過程方面,2.5D封裝技術(shù)相對簡單一些,主要涉及到中介層的制備和芯片的連接。而3D封裝技術(shù)則需要經(jīng)過深硅刻蝕、絕緣層沉積、阻擋層/種子層制備、電鍍填充等一系列復(fù)雜的工藝流程。這使得3D封裝技術(shù)的制造周期更長、成本更高。

成本方面,2.5D封裝技術(shù)通常具有更低的成本。這是因?yàn)橹薪閷拥闹苽浜托酒倪B接相對簡單一些,而且可以采用成熟的工藝和設(shè)備進(jìn)行生產(chǎn)。而3D封裝技術(shù)則需要采用昂貴的設(shè)備和專業(yè)的技術(shù)人員進(jìn)行生產(chǎn), 導(dǎo)致成本較高。

集成度方面,3D封裝技術(shù)具有更高的集成度。通過垂直互連的方式,3D封裝技術(shù)可以將多個(gè)芯片集成在一起,實(shí)現(xiàn)更高的性能和更小的封裝尺寸。而2.5D封裝技術(shù)雖然也可以通過中介層進(jìn)行多個(gè)芯片的連接,但集成度相對較低一些。

在未來的發(fā)展中,我們可以預(yù)見2.5D和3D封裝技術(shù)將繼續(xù)保持其重要地位,并在不斷的技術(shù)創(chuàng)新和優(yōu)化中取得更加顯著的成果。無論是對于高性能計(jì)算、存儲器解決方案還是其他領(lǐng)域的電子產(chǎn)品來說,2.5D和3D封裝技術(shù)都將為其提供更加高效、穩(wěn)定、可靠的解決方案。

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