晶體硅太陽能電池作為市場上的主流產品，其效率提升對降低成本和提高市場競爭力至關重要。在晶體硅太陽能電池的生產過程中，發射極的方阻均勻性對電池性能有顯著影響。方阻不均勻會導致電池內部電場分布不均，影響載流子的收集效率，從而降低電池的整體性能。通過探索新的擴散技術和理論模擬方法，來解決傳統工藝中存在的方阻不均勻性問題。

電池制備

超聲霧化器(左邊)和霧化硅片(右邊)

工業級 p 型電阻率為 1.1–1.8 Ω·cm，厚度為 180±20 μm 的 156mm×156mm尺寸直拉單晶硅片通過產線濕化學方法進行表面織構化，隨后放入 KOHH2O = 1100 溶液中去尖2分鐘。將含 5% H3PO4 的去離子水溶液超聲霧化至制絨后的硅片表面以完成預沉積過程。

CRID 電池和 TD 電池工藝流程

采用 PECVD 方法在擴散面沉積一層 70nm 厚的 SiNx 減反射層，溫度為400℃，隨后進行絲網印刷，其中正面為銀柵線，背面為鋁背場，經燒結爐中共燒最終完成電池制造。

改進的CRID 擴散爐

CRID 爐體結構示意圖

CRID擴散爐由預熱區、高溫區和冷卻區組成，使用自旋的Al2O3陶瓷輥軸代替傳統的金屬網帶，以減少金屬污染。

發射極特點

不同擴散溫度的方阻

由圖可知，擴散溫度為 810°C 時，平均方阻最高約 132Ω/sq，擴散溫度為 870°C 時， 平均方阻約 44Ω/sq。可見，在相同的擴散時間條件下，隨著擴散溫度的增加，方阻不斷降低。

不同擴散溫度的 ECV 分布

根據襯底的電阻率為 1.1–1.8 Ω·cm 可知， 結深位置大約在 1E16cm?3濃度附近，由圖可知，810°C 工藝的結深約為 0.16 μm，870°C工藝的結深為 0.37μm。隨著溫度的升高，結深不斷加深。

電池的方阻分布

TD 和 CRID 電池的方阻分布

方塊電阻的標準差是反映方塊電阻分布均勻性的重要參數。圖中顯示了 CRID 和 TD 硅片的方阻標準差分別為 2.1Ω/sq和 4Ω/sq，表明 CRID電池在目標方阻70 Ω/sq 時方阻分布要比 TD電池以 75 Ω/sq 為目標方阻時分布得更為均勻。

CRID工藝在方阻均勻性方面表現出優勢，這可能使其成為制造高效率太陽能電池的更優選擇。

TD和CRID的電性能比較

TD 與 CEID 電池性能

CRID 電池性能低于 TD 電池，在方塊電阻相近的情況下，開路電壓相差過大，主要是 CRID 的復合過于嚴重，并聯電阻過小造成的。而 CRID 短路電流更低，主要反映的是光譜響應過差。

TD 電池和 CRID 電池外量子效率

CRID 電池的短波響應遠低于 TD 電池，說明 CRID 電池的表面復合更為嚴重，限制開路電壓和短路電流，進而使得轉換效率偏低。經四探針方阻測試，CRID 經去 PSG 后，表面方阻變化不明顯，約 72Ω/sq，而 TD 去完 PSG 后從 75Ω/sq 至升至 85Ω/sq 左右，方阻標準差為 5.65Ω/sq。

富磷層及其去除方法

富磷層的形成增加了電池的表面復合，限制了開路電壓和短路電流，進而影響轉換效率。為了去除富磷層，采用了1% KOH溶液進行刻蝕處理。通過不同時間的刻蝕實驗，研究了刻蝕時間對方塊電阻的影響，以及對電池性能的影響。

不同刻蝕時間的方阻分布

由圖可知，隨著刻蝕時間的增加，平均方塊電阻從 71.1Ω/sq 增加至 115.6Ω/sq，與此同時，方塊電阻標準差也從 2.1Ω/sq 增加至5.2 Ω/sq。隨著刻蝕時間的增加，富磷層厚度在不斷降低，至于刻蝕多長時間可最大程度甚至完全將富磷層去降干凈，而表面不被過度刻蝕，主要依賴不同刻蝕時間后的電性能參數。

不同擴散工藝的電池效率分布及相應的結深

實線代表的是不同擴散溫度下獲得的結深，散點圖代表的是不同刻蝕時間獲得的效率。由圖可知，CRID 電池在 850℃，刻蝕時間為 200s 時，電池效率最高，這意味著 850℃是最適合當前產線技術的工藝參數，并且富磷層已被盡可能去除了。

電池性能

CRID 電池去富磷層前后與 TD 電池的電性能參數對比

對比了CRID和TD電池的性能，發現CRID電池在去除富磷層后，開路電壓、短路電流、填充因子和效率都有顯著提升。

硼發射極方阻標準差

以 81Ω/sq 為目標方阻，通過管式擴散完成硼發射極制備，分析了方阻標準差分別為 4.66Ω/sq、4.37Ω/sq 和 4.75Ω/sq 的電池性能。

三樣品的方塊方阻分布

上圖展示了方阻在硅片上的分布情況，顏色深淺或等高線密度可以表示方阻的大小，從而直觀地顯示方阻的均勻性。方阻均值提供了樣品整體方阻水平的信息，而標準差則反映了方阻分布的離散程度，即方阻的均勻性。

方阻標準差對電性能影響

樣品 1、2 和 3 的 JV 曲線

方阻分布的均勻性對電池的電性能有顯著影響。方阻分布越均勻，電池的Voc、Jsc、FF和Eff通常越高。

通過調節擴散溫度，使用CRID工藝成功實現了寬范圍的方塊電阻調節，同時獲得了較淺的結深。CRID電池在適當的工藝條件下，具有獲得更高效率的潛力，并且能更好地適應多主柵設計。通過對比不同方阻偏差的電池性能，研究發現方阻越均勻，電池性能越好。

美能在線方阻測試儀

美能在線方阻測試儀是專為光伏工藝監控設計的在線四探針方阻儀，可以對最大230mm×230mm的樣品進行快速、自動的掃描，獲得樣品不同位置的方阻/電阻率分布信息。

• 測量范圍：1mΩ~100MΩ
• 測量點數支持5點、9點測量，同時測試5點滿足≤5秒，同時測試9點滿足≤10秒

測量精度：保證同種型號測量的精準度不同測試儀器間測試誤差在±1%

通過實驗和模擬深入分析了方阻均勻性對太陽能電池性能的影響，美能在線方阻測試儀的集成應用，為我們提供了一個高效、精確的方阻測量解決方案。

原文出處：《晶體硅太陽能電池摻雜與金屬化工藝研究》 黃志平 博士論文 2021

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