沉金工藝運用化學氧化還原反應,實現較厚金層沉積,屬化學鎳金沉積技術。該工藝賦予印刷線路板表面鍍層高度的顏色穩定性、光澤度及平整性,確保優秀的可焊性。因其導電性強、抗氧化性優越及持久耐用,黃金成為電路板表面處理的理想材料,尤其在要求嚴苛的部件如按鍵板和金手指板制造中,保障長期性能與可靠性。
一、沉金的加工能力
二、沉金的特殊工藝
1、沉金/化學鎳鈀金
不符合走字符打印時,或字符有上表面處理時,流程需調整為:先沉金(化學鎳鈀金)后印字符。
2、沉金/化學鎳鈀金+碳油
3、沉金/化學鎳鈀金+金手指(有引線)
鍍金手指生產時,需關閉金手指線的微蝕,開啟磨刷生產。外層無阻焊不能采用沉金/化學鎳鈀金+金手指此制作工藝。
4、沉金/化學鎳鈀金+長短金手指(剝引線)
1)剝引線設計要求
● 連接長短手指的引線補償前5mil;
●連接到板邊的主引線寬40mil;
●連接盤的直徑為20mil,且不影響附近金手指尺寸,盤中心位于主引線邊線上;
●手指相對拼版時,兩條主引線不能共用,必須單獨連接到板邊,且注意不能與板邊的切片孔重合,防止開路導通不良;
●引線的設計不允許與板邊和拼板內的分流點重合,避免導致剝引線異常;
●連接長短手指的引線和主引線,在阻焊層都必須做開窗處理。
2)對于鍍金手指,需滿足金手指拼板、倒角等相關要求。
3)外層基銅需≥HOZ。
4)所有高頻板不可以采用此流程。
5)鍍金手指生產時,需關閉金手指線的微蝕,開啟磨刷生產。
6)外層無阻焊不能采用此制作工藝。
5、沉金/化學鎳鈀金+印藍膠
6、沉金/化學鎳鈀金+OSP
1)壓干膜需要將OSP部分用干膜蓋住,其余部分按開窗處理,干膜單邊比OSP銅面大20mil(最小需要7mil);并同時保證干膜覆蓋位距離需要沉金的銅面或焊盤≥3mil。
2)干膜與干膜之間小的間隙需要填實處理,板邊及橋連的位置不要有干膜,OSP盤與沉金盤間距需要≥12mil。
3)所有孔的頂底層表面工藝必須相同。
4)壓干膜采用的干膜型號為W-250,通孔需要2張菲林。
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審核編輯 黃宇
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