光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體。其組成部分包括：光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產酸劑）、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過光化學反應，經曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩（掩模版）轉移到待加工基片上。依據(jù)使用場景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。

光刻膠是一種有機化合物，它受紫外線曝光后在顯影液中的溶解度發(fā)生顯著變化，而未曝光的部分在顯影液中幾乎不溶解。光刻膠在半導體制造過程中用于在硅片上形成精細的圖案。旋轉涂膠是一種常用的光刻膠涂覆技術，它通過高速旋轉硅片來實現(xiàn)光刻膠的均勻分布。

旋轉涂膠的步驟通常包括：

首先在硅片中心滴上一定量的光刻膠，硅片開始緩慢旋轉，以便光刻膠能夠流動并覆蓋硅片的表面。隨后硅片旋轉速度加快，由于離心力的作用，光刻膠會向硅片邊緣擴散。隨著旋轉速度的增加，光刻膠在硅片表面形成一個均勻的薄膜，當達到所需的膠膜厚度后，硅片逐漸減速至停止。

旋轉涂膠技術的優(yōu)勢包括：

均勻性：旋轉涂膠可以產生非常均勻的膠膜厚度，這對于保證光刻過程中圖案的一致性至關重要。

減少缺陷：通過控制旋轉速度和加速度，可以減少氣泡和顆粒等缺陷的產生。 提高效率：旋轉涂膠是一種快速的涂覆方法，可以提高生產效率。

節(jié)省材料：由于膠膜的均勻性和可控性，旋轉涂膠可以減少光刻膠的使用量。 適應性強：旋轉涂膠技術適用于不同的光刻膠類型和硅片尺寸。 旋轉涂膠過程中，需要精確控制旋轉速度、加速度和持續(xù)時間等參數(shù)，以確保膠膜的質量和一致性。此外，涂膠后的軟烘過程也非常重要，它有助于固化膠膜，減少光刻過程中的變形。

審核編輯：黃飛