實現(xiàn)了封裝面積減半的超小型尺寸
TDK通過HDD磁頭業(yè)務中積累的獨有薄膜工藝,開發(fā)了TCM0403R產(chǎn)品,其相比現(xiàn)有薄膜共模濾波器實現(xiàn)了大幅的小型化。
可節(jié)省電路基板空間與提高設計自由度的噪音抑制元件
智能手機及平板電腦等電子設備的高功能化進程不斷加快。因此,設備中使用的元件數(shù)量不斷增加,共模濾波器等噪音抑制元件的使用數(shù)量也呈現(xiàn)增加趨勢。同時,除了高功能化,這些設備同時還向小型、輕薄化發(fā)展,因此預計未來元件的封裝密度將會增大。此外,隨著設備設計自由度的提高,今后對于電子元件小型化的要求將會越來越高。
TDK通過改善薄膜工藝,優(yōu)化內部結構設計,在維持現(xiàn)有產(chǎn)品(TCM0605系列)特性的同時,使產(chǎn)品面積縮小至原有的1/2以下(41.5%),實現(xiàn)了行業(yè)最小等級的超小型薄膜共模濾波器TCM0403R,并實現(xiàn)了產(chǎn)品化。
圖1現(xiàn)有產(chǎn)品(TCM0605系列)與新產(chǎn)品(TCM0403R)之間的尺寸比較
表1TDK薄膜共模濾波器的產(chǎn)品尺寸與導體形狀變化
產(chǎn)品尺寸 | 1.0x1.25mm | 1.0x0.5mm | 0.65x0.5mm | 0.45x0.3mm |
Line寬 | 1 | 0.67 | 0.56 | 0.28 |
Aspect比 | 1.0 | 1.2 | 1.0 | 2.8 |
*1 Line寬是將1.0x1.25㎜產(chǎn)品作為1 的比例進行表述
*2 Aspect比
實現(xiàn)超小型化的TDK技術與措施
為了實現(xiàn)與現(xiàn)有產(chǎn)品相比將產(chǎn)品面積縮小至1/2以下的超小型形狀,產(chǎn)品設計與工藝優(yōu)化必不可少。以下對該工藝與TDK的措施進行介紹。
(1)圈導體的精細模式化
為在實現(xiàn)產(chǎn)品面積1/2的技術范圍內確保與現(xiàn)有產(chǎn)品擁有同等特性,需要事先將現(xiàn)有產(chǎn)品2倍以上的導體精細化與導體高寬比率*2。TDK薄膜共模濾波器的以往產(chǎn)品尺寸與導體形狀變化如下表所示。該導體的精細模式化是以HDD磁頭制造中的薄膜技術為基礎,并通過引進適合電子元件的光刻技術并改善電鍍技術而實現(xiàn)的。
(2)圓上形成端子電極
普通被動元件主要以芯片狀態(tài)形成端子,而薄膜共模濾波器TCM系列等薄膜電子元件則采用了在晶圓上形成端子的工藝及結構。共模濾波器中最少為四端子,因此在精度問題上,芯片狀態(tài)下的端子形成隨著小型化的推進,將出現(xiàn)更多的課題。對此,TCM系列中引進了在晶圓上形成端子的工藝,實現(xiàn)了只有薄膜工藝才可形成的高精度端子,從而使產(chǎn)品面積變?yōu)楝F(xiàn)有產(chǎn)品1/2以下的超小型化成為可能。
為此,TDK通過應用先進的薄膜技術,實現(xiàn)了領先于其他公司的電子元件小型化。今后,小型化將持續(xù)得到進一步發(fā)展,在為設備的小型、輕薄、輕量化以及高功能化做出貢獻的同時,積極降低環(huán)境負荷。
圖2薄膜共模濾波器TCM0403R的特性示例
與現(xiàn)有產(chǎn)品TCM0605G-900相比,在實現(xiàn)了產(chǎn)品面積縮小至1/2以下的小型化的同時,在共模特性、差模特性方面確保了同等的特性。
主要特點
通過薄膜工藝實現(xiàn)行業(yè)最小等級的共模濾波器
與現(xiàn)有產(chǎn)品TCM0605G相比實現(xiàn)同等特性
主要用途
主要電氣特性
Part No. | Common mode attenuation [Scc21] | Cutoff frequency (GHz)typ. | DC resistance[1 line](Ω) | Rated current(mA)max. | Rated voltage(V)max. | Insulation resistance (MΩ)min. |
---|---|---|---|---|---|---|
TCM0403R-900-2P | 27.5dB typ.@850MHz | 5.0 | 3.5±30% | 35 | 5 | 10 |
Operating temperature range: –25 to +85°C
頻率特性
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