光刻對準原理與精度控制
編者按
中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術的理解，本學期集成電路學院開設了《集成電路先進光刻技術與版圖設計優化》研討課。在授課過程中，除教師系統地講授外，學生還就感興趣的課題做深入調研。師生共同討論調研報告，實現教學互動。調研的內容涉及光刻工藝、光刻成像理論、SMO、OPC和DTCO技術。
考慮到這些內容也是目前業界關注的實用技術，征得教師和學生的同意，本公眾號將陸續展示一些學生的調研結果。這些報告還很初步，甚至有少許謬誤之處，請業界專家批評指正。
以下為報告PPT：
審核編輯：湯梓紅
聲明：本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內容侵權或者其他違規問題，請聯系本站處理。
舉報投訴
-
集成電路
+關注
關注
5392文章
11622瀏覽量
363185 -
光刻機
+關注
關注
31文章
1158瀏覽量
47583 -
光刻技術
+關注
關注
1文章
146瀏覽量
15895
原文標題：【Study】光刻對準原理與精度控制
文章出處：【微信號：光刻人的世界，微信公眾號：光刻人的世界】歡迎添加關注！文章轉載請注明出處。
發布評論請先 登錄
相關推薦
一文解析對準光刻蝕刻光刻的基本知識（SALELE）
通過逐步的說明，本系列說明并向您展示了確保在當今最先進的節點中確保布局保真度所需的自對準模式創建的復雜性。第1部分介紹了SADP和SAQP。在本期的最后一部分中，我們將向您介紹自對準光刻蝕刻光
光刻技術原理及應用
,對準精度的提高也受到較多的限制。一般認為，接觸式曝光只適于分立元件和中、小規模集成電路的生產。 非接觸式曝光主要指投影曝光。在投影曝光系統中，掩膜圖形經光學系統成像在感光層上，掩模與晶片上的感光膠
發表于 01-12 10:51
三種常見的光刻技術方法
光刻技術中,涂有光刻膠的硅片與掩膜版直接接觸.由于光刻膠和掩膜版之間緊密接觸,因此可以得到比較高的分辨率.接觸式暴光的主要問題是容易損傷掩膜版和光刻膠.當掩膜版與硅片接觸和
發表于 01-12 10:56
基于ARM的毫米波天線自動對準平臺系統
在毫米波中繼通信設備中，為提高對準精度，縮短對準時間，滿足快速反應的要求，并結合毫米波波瓣窄，方向性強的特點，創造性地提出了毫米波天線自動對準平臺系統的設計方案。在天線對準過程中，將復
發表于 06-11 06:24
基于視頻共焦顯微鏡光刻對準系統設計研究
基于視頻共焦顯微鏡光刻對準系統設計研究王魯賓，周金運，宋超（廣東工業大學物理與光電工程學院，廣東 廣州 510006）摘要：針對目前研究的激光投影光刻機的對準需要
發表于 12-17 14:47
?14次下載
高精度自動貼片機視覺對準系統及其圖像處理
摘 要:闡述了高精度自動貼片機視覺對準系統的構成和原理。介紹了利用模式識別理論和圖像的不變矩實現定位標志存在性判斷的原理及算法和定位標志對準的原理及相關的圖像處
發表于 11-13 23:32
?78次下載
高精度光刻機在大規模集成電路上的應用
微細圖形加工技術是集成電路向高集成化發展的關鍵, 其中圖形曝光對準是很主要的。由于接觸式光刻機的精度高、設備造價低, 所以在集成電路制造中被廣泛采用。但是, 隨著大規模集
發表于 10-28 17:19
?65次下載
一文解析刻蝕機和光刻機的原理及區別
光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘
發表于 04-10 09:49
?13.3w次閱讀
一文看懂asml光刻機工作原理及基本構造
在半導體芯片制造設備中，投資最大、也是最為關鍵的是光刻機，光刻機同時也是精度與難度最高、技術最為密集、進步最快的一種系統性工程設備。光學光刻技術與其它
應該如何使用ARM實現毫米波天線自動對準平臺的設計
在毫米波中繼通信設備中，為提高對準精度，縮短對準時間，滿足快速反應的要求，并結合毫米波波瓣窄，方向性強的特點，創造性地提出了毫米波天線自動對準平臺系統的設計方案。在天線對準過程中，將復
發表于 08-04 18:52
?3次下載
GTC 2023主題直播：NVIDIA推出計算光刻庫——cuLitho
晶圓的定位精度達到四分之一納米，并且每秒對準2萬次以消除任何振動的影響。光刻之前的步驟同樣令人不可思議。
工商網監
評論