大家好，我是【廣州工控傳感★科技】EPB-PW壓力傳感器事業部，張工。

EPB-PW壓力傳感器應用于離心機或實驗室設備的孔隙水測量。EPB-PW壓力傳感器采用陶瓷或青銅燒結過濾器，因此適用于黏土或基于砂子的材料。 EPB-PW壓力傳感器的鈦合金外殼提供非常堅固的結構，安裝時不受外夾力的影響。6.4×11.4mm的小尺寸確保EPB-PW兼容。主要包括IP68防護等級，柔性電纜，以及內置PT1000溫度傳感器。

壓力傳感器敏感元件的性能不僅取決于其材料，還與其加工工藝有關。 采用集成技術、薄膜技術、微細加工技術、離子注入技術、靜電密封技術等，可以生產出質地均勻、性能穩定、可靠性高、體積小、重量輕、集成敏感組件。 下面簡要介紹薄膜技術、微細加工技術、離子注入技術。

壓力傳感器EPB-PW的特點：

量程包括1/1.5/3.5/7/15/35/70bar；

測量精度±0.5%；

非重復性±2.5%FSO；

工作溫度范圍-40~+80℃；

溫度補償范圍0~60℃；

支持EMI保護功能；

尺寸6.4×11.4mm；

IP68防護等級。

壓力傳感器EPB-PW的應用：孔隙水的測量離心機實驗室

EPB-PW壓力傳感器薄膜技術：

在一定的基板上，采用真空蒸鍍、濺射、化學氣相沉積（CVD）、等離子CVD、外延、電鍍等工藝形成金屬、合金、半導體、化合物半導體等材料的薄膜。 薄膜的厚度約為十分之幾微米到幾微米，這種加工技術稱為薄膜技術。 薄膜技術可生產力敏、光敏、磁敏、氣敏、濕敏、輻射敏感、熱敏、化學敏感、生物敏感等薄膜敏感元件。

真空蒸發是在真空室的加熱器中加熱待蒸發材料（源），使其分子或原子獲得足夠的熱能離開源材料，形成蒸汽，沉積在基板上形成薄層 電影。

濺射是將氣體在低真空室中用高壓（高于1000V DC或AC）電離形成等離子體，等離子體的正離子以高能量轟擊由被濺射材料制成的陰極靶表面 制造原子 通過將靶材表面沉積到陽極臺的基板上來形成薄膜。 這種方法形成的薄膜比真空蒸鍍更牢固，可以生產高熔點金屬（合金）薄膜和復合薄膜。 其化學成分基本不變，但工藝設備較復雜，成膜速度較慢。 其中，直流濺射用于制備金屬（合金）薄膜和半導體薄膜，交流濺射用于制造介電薄膜和金屬薄膜。

不同的薄膜工藝用于不同的敏感元件。 即使是相同的敏感元件，也可以通過不同的薄膜工藝制造，以獲得不同的性能。 因此，應根據不同的要求選擇不同的薄膜工藝。 薄膜技術的機理仍需進一步研究，以更好地指導實踐，提高薄膜敏感元件的穩定性和可靠性。 現在預計會發現一些新的物理化學效應，促進敏感元件的發展。

外延工藝本質上是CVD工藝。 它是以單片硅片等為基礎，利用氫或氟還原含硅的化合物，如硅烷（SiH4）或四氯化硅等，使單晶硅或其他物質形成并沉積在硅片上。 襯底形成薄膜，例如通過CVD技術在藍寶石上外延生長單晶硅薄膜（SOS）。 如果襯底和外延膜是同一種材料，則稱為同質外延； 否則，兩者不是同一種材料，稱為異質外延。