據麥姆斯咨詢報道,近期,由韓國亞洲大學(Ajou University)和RayIR公司組成的研究團隊利用雙轉移技術結合表面改性輔助鍵合(SMB)工藝成功地在PDMS襯底上制造了一種頂發射930 nm薄膜垂直腔面發射激光器(VCSEL)。該薄膜VCSEL在室溫下的閾值電流低至1.08 mA。當注入電流為13.9 mA時,其最大輸出功率為7.52 mW。相關研究成果以“Highly efficient thin-film 930 nm VCSEL on PDMS for biomedical applications”為題發表于Scientific Reports期刊,文中提出的方法有望為下一代VCSEL的多功能生物醫學應用開辟技術可能性。
光電子學已經在生物醫學行業得到了廣泛的研究和開發,以用于基于光學的生物傳感、光動力療法、熒光成像和激光手術等多種應用。特別是,生物相容性光源最近在生物醫學技術領域引起了極大的關注,因為它們具有推動下一代生物醫學應用發展的潛力,使傳感器能夠獲得血壓、卡路里消耗和心電圖(ECG)等實時生理監測信息。
與傳統發光二極管(LED)和邊緣發射激光二極管(EEL)相比,垂直腔面發射激光器(VCSEL)由于其低閾值、低發散光束尺寸、出色的可靠性和低功耗而迅速成為一種有前景的光源。此外,二維(2D)激光陣列可大規模制造,使其能夠容易地封裝到光子集成電路(PIC)等光學芯片中。隨著多功能VCSEL應用的技術進步,許多項研究工作提出將傳統VCSEL與聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)等生物相容性聚合物以及Si和藍寶石等剛性襯底相集成。然而,由于缺乏將傳統VCSEL與適用于生物組織的聚合物集成的有效技術,因此限制了具有生物相容性的高效薄膜VCSEL的實現。
聚二甲基硅氧烷(PDMS)屬于一類高分子有機硅化合物,由于其生物相容性和生物穩定性,有望成為生物電子應用的合適材料。與用于微器件制造的其它材料相比,PDMS還具有熱穩定性、柔性和輕質性,并且具有較低的制造成本。它已被廣泛應用于生物MEMS、微流控系統和生物光學等生物電子學,使其能夠減輕對人體組織的炎癥反應等不良影響。PDMS還可以在較寬的溫度范圍內保護電子元件免受機械和環境影響。這一特性使PDMS材料能夠用于生物電子行業,從而保護基于半導體的波導、光纖和激光器等微光學器件。
然而,由于PDMS在器件制造和特性測量方面的不利特性,在實現集成于PDMS襯底的生物相容性薄膜VCSEL方面仍存在一些挑戰。PDMS在整個表面上具有相當大的疏水性,使其在鍵合過程中難以與親水性III–V族外延層的表面相結合。此外,當與一些試劑結合時,PDMS往往會發生膨脹,從而中斷化學分析的定量測試。盡管人們多次成功嘗試將PDMS從疏水性改變為親水性,但目前仍存在一些局限性,如化學不穩定性、大規模制造工藝限制以及難以長時間保持親水性等。
在本論文中,研究團隊利用雙轉移技術結合表面改性輔助鍵合(SMB)工藝成功地在PDMS襯底上制造了一種頂發射930 nm薄膜VCSEL,使其能夠用于生物相容性光源。為了將VCSEL的薄膜III–V族外延層與PDMS襯底集成,研究人員利用雙轉移技術將VCSEL兩次轉移到異質載體襯底上,以保持薄膜VCSEL的p-on-n極性。此外,他們使用氧等離子體結合有機硅烷處理進行表面改性輔助鍵合,當將PDMS載體與去除襯底的薄膜VCSEL結合時不需要任何額外的鍵合介質。文中證實了將薄膜VCSEL結構集成到PDMS襯底上的轉移過程不會嚴重降低VCSEL在光-電流-電壓(L–I–V)特性和光譜方面的性能。特別是,文中還確定了該頂發射930 nm薄膜VCSEL在室溫下的低工作閾值電流約為1 mA,這表明PDMS襯底上的薄膜VCSEL的閾值電流與GaAs襯底上的傳統VCSEL一樣低。
圖1顯示了使用SMB和雙轉移工藝轉移到柔性PDMS襯底上的頂發射930 nm薄膜VCSEL的結構示意圖。
圖1 轉移到PDMS襯底上的頂發射930 nm薄膜VCSEL的結構示意圖
圖2顯示了薄膜VCSEL的外延生長的p-on-n結構。研究人員采用金屬有機化學氣相沉積法(MOCVD),以垂直向上的順序在n型GaAs襯底上生長了薄膜VCSEL的p-on-n結構。VCSEL的有源區域由被夾在兩個分布式布拉格反射鏡(DBR)中間的3個GaAsP/InGaAs MQW構成,DBR由n-DBR和p-DBR交替的高、低折射率材料構成。蝕刻停止層生長在GaAs緩沖層上,以在去除GaAs襯底過程中保護VCSEL結構。
圖2 利用MOCVD制造的薄膜VCSEL的p-on-n結構
圖3顯示了利用SMB和雙轉移技術將薄膜VCSEL轉移到PDMS襯底的制造工藝。
圖3 將薄膜VCSEL轉移到PDMS襯底的制造工藝
圖4a展示了集成于PDMS襯底的頂發射930 nm薄膜VCSEL的照片,可見其具有相當大的柔性。圖4b和圖4c分別描繪了制造的薄膜VCSEL的FE-SEM頂視圖和截面圖。
圖4 集成于PDMS襯底的頂發射930 nm薄膜VCSEL
圖5a顯示了在25°C連續波(CW)工作模式下集成于PDMS襯底上的頂發射930 nm薄膜VCSEL的L-I-V特性,其閾值電壓和電流分別約為1.69 V和1.08 mA。當注入電流為13.9 mA時,該薄膜VCSEL的最大輸出功率為7.52 mW。圖5b顯示了所制造的薄膜VCSEL的光譜,其峰值波長為929 nm。
圖5 頂發射930 nm薄膜VCSEL的L-I-V特性和發射光譜
在25°C的相同條件下,研究人員比較了GaAs襯底上的傳統VCSEL和PDMS襯底上的薄膜VCSEL的L–I–V特性,結果如圖6所示。
圖6 GaAs襯底上的傳統VCSEL和PDMS襯底上的薄膜VCSEL的L-I-V特性對比
綜上所述,本文實現了一種轉移到PDMS襯底上的生物相容性頂發射930 nm薄膜VCSEL,具有高度的柔性。雙轉移技術使所制造的930 nm薄膜VCSEL能夠保持p-on-n極性。此外,表面改性工藝表現出優異的鍵合性能,無需任何額外的材料即可將PDMS載體與去除襯底的薄膜VCSEL集成。當注入電流為13.9 mA時,集成于PDMS襯底的930 nm薄膜VCSEL的最大輸出功率為7.52 mW。該薄膜VCSEL的閾值電流和電壓分別為1.08 mA和1.64 V。本文提出的方法有望為下一代VCSEL的多功能生物醫學應用開辟技術可能性。
論文信息:
https://doi.org/10.1038/s41598-023-27589-1
審核編輯 :李倩
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原文標題:基于PDMS襯底的高效頂發射930 nm薄膜VCSEL,為生物醫學應用開辟技術可能性
文章出處:【微信號:MEMSensor,微信公眾號:MEMS】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。
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