據(jù)相關(guān)媒體報(bào)道,華為周二公布了一項(xiàng)新專利,提供了一種反射鏡、光刻裝置及其控制方法,而這種方法便能夠解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無(wú)法勻光的問(wèn)題,在極紫外光的光刻裝置基礎(chǔ)上進(jìn)行了優(yōu)化,進(jìn)而達(dá)到勻光的目的。
專利名稱:反射鏡、光刻裝置及其控制方法
專利申請(qǐng)?zhí)枺篊N202110524685.X
該專利提供一種光刻裝置,該光刻裝置通過(guò)不斷改變相干光形成的干涉圖樣,使得照明視場(chǎng)在曝光時(shí)間內(nèi)的累積光強(qiáng)均勻化,從而達(dá)到勻光的目的,進(jìn)而也就解決了相關(guān)技術(shù)中因相干光形成固定的干涉圖樣而無(wú)法勻光的問(wèn)題。
該光刻裝置包括相干光源1、反射鏡2(也可以稱為去相干鏡)、照明系統(tǒng) 3。其中,反射鏡 2 可以進(jìn)行旋轉(zhuǎn);例如,可以在光刻裝置中設(shè)置旋轉(zhuǎn)裝置,反射鏡2能夠在旋轉(zhuǎn)裝置的帶動(dòng)下發(fā)生旋轉(zhuǎn)。在該光刻裝置中,相干光源1發(fā)出的光線經(jīng)旋轉(zhuǎn)的反射鏡2的反射后,通過(guò)照明系統(tǒng)3分割為多個(gè)子光束并投射至掩膜版4上,以進(jìn)行光刻。
在光刻裝置中,上述照明系統(tǒng)3作為重要組成部分,其主要作用是提供高均勻性照明 (勻光)、控制曝光劑量和實(shí)現(xiàn)離軸照明等,以提高光刻分辨率和增大焦深。 照明系統(tǒng)3的勻光功能可以是通過(guò)科勒照明結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)的。
該照明系統(tǒng)3包括視場(chǎng)復(fù)眼鏡31(field flyeye mirror,F(xiàn)FM)、光闌復(fù)眼鏡 32(diaphragm flyeye mirror,PFM)、中繼鏡組33;其中,中繼鏡組33通常可以包括兩個(gè)或者兩個(gè)以上的中繼鏡。照明系統(tǒng)3通過(guò)視場(chǎng)復(fù)眼鏡31將來(lái)自相干光源 1 的光束分割成多個(gè)子光束,每個(gè)子光束再經(jīng)光闌復(fù)眼鏡32進(jìn)行照射方向和視場(chǎng)形狀的調(diào)整,并通過(guò)中繼鏡組33進(jìn)行視場(chǎng)大小和 / 或形狀調(diào)整后,投射到掩膜版4的照明區(qū)域。
通過(guò)在相干光源1與照明系統(tǒng)3之間的光路上設(shè)置反射鏡2,在此情況下,相干光源1發(fā)出的光線經(jīng)旋轉(zhuǎn)的反射鏡2反射后相位不斷發(fā)生變化,這樣一來(lái),在經(jīng)反射鏡2反射后的光線通過(guò)照明系統(tǒng)3分割為多個(gè)子光束并投射至掩膜版4上時(shí),形成在掩膜版4的照明區(qū)域的干涉圖樣不斷變化,從而使得照明視場(chǎng)在曝光時(shí)間內(nèi)的累積光強(qiáng)均勻化,從而達(dá)到勻光的目的,進(jìn)而也就解決了相關(guān)技術(shù)中因相干光形成固定的干涉圖樣而無(wú)法勻光的問(wèn)題。
編輯:黃飛
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原文標(biāo)題:華為EUV光刻新專利:解決相干光無(wú)法勻光問(wèn)題
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