一臺光刻機一天能生產(chǎn)多少芯片
按照光刻機的理想工作狀態(tài)，一臺光刻機一天能生產(chǎn)800×600顆芯片，也就是48萬顆芯片，除去產(chǎn)品中的一部分次品，一天剩下的大概在40萬顆芯片左右。
我國在芯片技術(shù)的發(fā)展上，一直受國外的制裁。目前最難攻克的就是光刻機的研制，目前光刻機做的最好的國家就是荷蘭，一臺EUV光刻機的售價高達十億。
雖然我國芯片技術(shù)發(fā)展受到了國外的牽制，但也給中國半導體企業(yè)發(fā)展迎來了新的機會，華為作為芯片行業(yè)的領(lǐng)頭羊，在芯片設(shè)計研發(fā)行業(yè)也有了很大進步。
審核編輯：姚遠
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
芯片
+關(guān)注
關(guān)注
456文章
51182瀏覽量
427271 -
華為
+關(guān)注
關(guān)注
216文章
34532瀏覽量
253004 -
光刻機
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1158瀏覽量
47583
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
光刻機巨頭ASML業(yè)績暴雷，芯片迎來新一輪“寒流”？
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/黃山明）作為芯片制造過程中的核心設(shè)備，光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經(jīng)成為高端芯片（7nm及以下）
如何提高光刻機的NA值
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上
光刻機的分類與原理
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機包括
組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹
? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備，它的工作原
用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹
? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造：光刻技術(shù)的演進 過去半個多世紀，摩爾定律一直推動著半導體技術(shù)的發(fā)展，但當
光刻機的工作原理和分類
，是半導體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。芯片的加工過程對精度要求極高，光刻機通過一系列復雜的技術(shù)手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，然后使用化學方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖
一文看懂光刻機的結(jié)構(gòu)及雙工件臺技術(shù)
，光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備，其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺技術(shù)展開介紹。 一、
俄羅斯首臺光刻機問世
據(jù)外媒報道，目前，俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機，作為澤廖諾格勒技術(shù)生
俄羅斯推出首臺光刻機：350nm
的芯片。Shpak表示，“我們組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機。作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分，目前正在對其進行測試。”俄羅斯接下來的目標是在
荷蘭阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機
disable）臺積電相應機器，而且還可以包括最先進的極紫外光刻機（EUV）。 這就意味著阿斯麥（ASML）留了后門，隨時有能力去遠程癱瘓制造芯片的光刻機。 要知道我國大陸市場已經(jīng)連
臺積電A16制程采用EUV光刻機，2026年下半年量產(chǎn)
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露，臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑（High-NA）EUV光刻機，而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機進行生產(chǎn)。相較之下，英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-N
光刻機的發(fā)展歷程及工藝流程
光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發(fā)展到浸沒步進式投影
發(fā)表于 03-21 11:31
?6796次閱讀
英特爾成為全球首家購買3.8億美元高數(shù)值孔徑光刻機的廠商
英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機而成為新聞焦點。到目前為止，英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機的晶圓廠，據(jù)報道它們的售價約為3.8億美元
工商網(wǎng)監(jiān)
評論