全球四大光刻機(jī)生產(chǎn)商如下:
1.上海微電子
上海微電子簡(jiǎn)稱SMEE,主要致力于半導(dǎo)體裝備泛半導(dǎo)體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售及技術(shù)服務(wù)。公司設(shè)備廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進(jìn)封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領(lǐng)域。
2.荷蘭ASML
ASML是一家總部設(shè)在荷蘭埃因霍芬(Eindhoven)的全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備制造商之一,向全球復(fù)雜集成電路生產(chǎn)企業(yè)提供領(lǐng)先的綜合性關(guān)鍵設(shè)備。
ASML為半導(dǎo)體生產(chǎn)商提供光刻機(jī)及相關(guān)服務(wù),TWINSCAN系列是目前世界上精度最高,生產(chǎn)效率最高,應(yīng)用最為廣泛的高端光刻機(jī)型。
3.佳能
佳能是日本的一家全球領(lǐng)先的生產(chǎn)影像與信息產(chǎn)品的綜合集團(tuán),佳能光刻機(jī)22納米 ,光刻機(jī)是制造微機(jī)電、光電二極體大規(guī)模集成電路的關(guān)鍵設(shè)備。光刻機(jī)可以分鐘兩種,分別是模板和圖樣大小一致的contact aligner ,曝光時(shí)模板緊貼芯片;第二是類似投影機(jī)原理的stepper ,獲得比模板更小的曝光圖樣。
4.尼康
尼康(Nikon),是日本的一家著名制造商,成立于1917年。尼康作為世界上能夠制造商用光刻機(jī)的公司,似乎在這個(gè)領(lǐng)域不被許多普通人知道,許多人只知道尼康的相機(jī)做的好,卻不知道尼康光刻機(jī)同樣享譽(yù)全球。
編輯:YYX
整合自:百科、百度知道
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
相關(guān)推薦
光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
發(fā)表于 02-06 09:38
?30次閱讀
本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號(hào)的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上一代更大一些。NA,又名
發(fā)表于 01-20 09:44
?208次閱讀
本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
發(fā)表于 01-16 09:29
?442次閱讀
? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高,能夠達(dá)到
發(fā)表于 01-07 10:02
?407次閱讀
? 本文介紹了用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個(gè)多世紀(jì),摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長(zhǎng)卡在193nm,芯片制程縮小至6
發(fā)表于 11-24 11:04
?974次閱讀
? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī):芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位,被譽(yù)為芯片制
發(fā)表于 11-24 09:16
?2549次閱讀
據(jù)外媒報(bào)道,目前,俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測(cè)試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長(zhǎng)瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺(tái)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī),作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)
發(fā)表于 05-28 15:47
?846次閱讀
在全球四大先進(jìn)制程代工巨頭(包括臺(tái)積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)。
發(fā)表于 05-27 14:37
?690次閱讀
阿斯麥稱可遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)積電光刻機(jī) 據(jù)彭博社爆料稱,有美國(guó)官員就大陸攻臺(tái)的后果私下向荷蘭和中國(guó)臺(tái)灣官員表達(dá)擔(dān)憂。對(duì)此,光刻機(jī)制造商阿斯麥(ASML)向荷蘭官員保證,可以遠(yuǎn)程癱瘓(remotely
發(fā)表于 05-22 11:29
?5830次閱讀
據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計(jì)劃在此階段使用最新的High-NA EUV
發(fā)表于 05-17 17:21
?1095次閱讀
光刻機(jī)有很多種類型,但有時(shí)也很難用類型進(jìn)行分類來區(qū)別設(shè)備,因?yàn)橛行┓诸悆H是在某一分類下的分類。
發(fā)表于 04-10 15:02
?2105次閱讀
光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒步進(jìn)式投影
發(fā)表于 03-21 11:31
?6796次閱讀
3 月 13 日消息,光刻機(jī)制造商 ASML 宣布其首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機(jī)型將帶來更高的生產(chǎn)效率。 ▲ ASML 在 X 平臺(tái)上的相關(guān)動(dòng)態(tài)
發(fā)表于 03-14 08:42
?601次閱讀
英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購(gòu)買世界上第一臺(tái)高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機(jī)而成為新聞焦點(diǎn)。到目前為止,英特爾是全球唯一一家訂購(gòu)此類光刻機(jī)的晶圓廠,據(jù)報(bào)道它們的售價(jià)約為3.8億美元
發(fā)表于 03-06 14:49
?512次閱讀
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
發(fā)表于 03-04 17:19
?4938次閱讀
評(píng)論