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[譯] [轉]中國加快先進芯片開發(fā)

40°研究院 ? 2020-09-28 19:09 ? 次閱讀

在與西方之間持續(xù)的貿易緊張關系中,中國正在加速發(fā)展其國內半導體產業(yè),以期變得更加自給自足。

該國在IC技術方面仍然落后,并且距離自力更生還很遙遠,但它正在取得顯著進步。直到最近,中國的國內芯片制造商仍受制于成熟的代工工藝,并且沒有內存。不過,最近,一家中國代工廠進入了14nm finFET市場,研發(fā)能力為7nm。中國也正在擴大記憶。在晶圓廠設備領域,中國正在開發(fā)自己的極紫外(EUV)光刻系統(tǒng),該技術可以對芯片中最先進的特征進行圖案化。

中國不太可能在短期內發(fā)展自己的EUV系統(tǒng)。就此而言,至少在目前,美國的鑄造和記憶工作還很薄弱。而且中國不會很快超過跨國芯片制造商。

盡管如此,它出于幾個原因正在發(fā)展其國內IC產業(yè)。一方面,中國從外國供應商那里進口了大部分芯片,這造成了巨大的貿易缺口。中國擁有龐大的集成電路產業(yè),但規(guī)模還不足以彌合差距。作為回應,美國正在向集成電路產業(yè)投入數(shù)十億美元,并計劃制造更多自己的芯片。簡而言之,它希望減少對外國供應商的依賴。

中國最近加快了這些努力,特別是當美國與該國發(fā)動多方貿易戰(zhàn)時。僅舉一個例子,美國使華為更難獲得美國的芯片和軟件。最近,美國阻止了ASML將EUV掃描儀運送給中國最大的晶圓代工廠商SMIC。中國將這些行動和其他行動視為阻礙其增長的一種方式,促使其加快自身技術的發(fā)展。

同時,美國表示其與貿易有關的行為是有道理的,聲稱中國從事不公平的貿易做法,并且未能保護美國的知識產權。中國駁回了這些主張。盡管如此,該行業(yè)需要密切關注貿易問題以及中國在半導體領域的進步。它們包括:

  • 中芯國際正在交付14nm finFET,并在研發(fā)中采用類似7nm的工藝。

  • 揚子存儲技術有限公司(YMTC)最近憑借64層設備進入了3D NAND市場。128層技術正在研發(fā)中。

  • ChangXin Memory Technology(CXMT)正在發(fā)售其第一款產品,即19nm DRAM產品線。

  • 中國正向包括氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)的復合半導體領域擴展。

  • 中國的OSAT正在開發(fā)更高級的軟件包。

這一切聽起來令人印象深刻,但中國仍在落后。中國在瘋狂地消費。中國的戰(zhàn)略是成為半導體制造業(yè)的參與者。VLSI Research總裁Risto Puhakka表示:“這是因為希望在國內制造能力中占有更大份額以及出于安全考慮。“但是中國在內存中的份額很小。在邏輯方面,他們落后于臺積電。從任何合理的方面來看,中國都遠遠不能自給自足。”

這些不是唯一的問題。D2S首席產品官Leo Pang說:“中國仍然面臨許多挑戰(zhàn),包括需要更多的人才和IP來制造半導體,以及需要進一步縮小領先工藝技術之間的差距?!?/span>“最大的挑戰(zhàn)是美國和中國政府之間的緊張關系,這導致制造設備和EDA軟件供應的不確定性?!?/span>

中國的戰(zhàn)略
中國已經(jīng)參與了集成電路行業(yè)數(shù)十年。在1980年代,它擁有幾家技術過時的國有芯片制造商。因此,當時中國推出了一些舉措,以實現(xiàn)其集成電路產業(yè)的現(xiàn)代化。在外國關注的幫助下,該國在1980年代和1990年代發(fā)起了幾家芯片企業(yè)。

盡管如此,由于多種原因,中國在半導體技術方面仍落后于西方。當時,西方國家對中國實施了嚴格的出口管制。禁止設備供應商將最先進的工具運往中國。

然后在2000年,中國推出了兩家新興的國內代工廠商-Grace和SMIC。到那時,中國的出口管制放松了。設備供應商只需要獲得將工具運到中國的許可證即可。

大約在那個時候,中國成為了一個勞動力低廉的大型制造業(yè)基地。對芯片的需求猛增。隨著時間的流逝,美國成為全球最大的芯片市場。

從2000年代后期開始,跨國芯片制造商開始在中國建立晶圓廠以進入市場。英特爾三星和SK海力士在中國建立了存儲器工廠。臺積電和聯(lián)電在那建立了晶圓代工廠。

根據(jù)IC Insights的數(shù)據(jù),到2014年,中國消費了價值770億美元的芯片,但進口了大部分芯片。另外,根據(jù)IC Insights的數(shù)據(jù),中國僅生產了這些芯片的15.1%。其余的在中國境外制造。

作為回應,在獲得數(shù)十億美元資金支持后,中國政府在2014年推出了一項新計劃。目標是加快中國在14nm finFET,存儲器和封裝方面的努力。

然后,在2015年,中國又發(fā)起了一項名為“中國制造2025”的倡議。目標是增加10個領域的零部件的國內含量-IT,機器人技術,航空航天,航運,鐵路,電動汽車,電力設備,材料,醫(yī)藥和機械此外,據(jù)IC Insights稱,中國希望變得更加自給自足,并希望到2025年將其國內產量提高到70%。

根據(jù)IC Insights的數(shù)據(jù),2019年中國消費了價值1,250億美元的芯片,但仍進口了大部分芯片。中國僅生產了這些芯片的15.7%,因此不太可能在2025年之前達到其生產目標。


圖1:中國集成電路市場與生產趨勢的關系資料來源:IC Insights

中國也面臨其他挑戰(zhàn),特別是技術人才短缺。D2S'Pang指出:“中國仍在尋求更多的半導體制造人才。”“這主要是因為中國正在建設十二個新的晶圓廠。它已經(jīng)通過向臺灣,韓國,日本乃至美國的晶圓廠招募了成千上萬甚至數(shù)萬名經(jīng)驗豐富的半導體工程師,并為其支付了非常誘人的薪酬。

好的一面是,中國從今年初的Covid-19大流行中迅速復蘇。2020年上半年,中國及其他地區(qū)對芯片和設備的需求強勁。“ 200mm的容量已在各種最終應用中繼續(xù)滿負荷運行。在過去的一年中,在300mm區(qū)域也出現(xiàn)了類似情況?!?/span>UMC業(yè)務發(fā)展副總裁Walter Ng表示

其他人看到類似的趨勢。“在Covid-19大會期間,中國半導體測試和封裝市場一直保持韌性,”FormFactor高級副總裁艾米·梁(Amy Leong)說。“由于“中國制造2025”倡議在過去幾年中建立的勢頭以及中美緊張局勢下最近的“恐慌建立/購買”,兩者的結合推動了需求的穩(wěn)定。話雖如此,隨著對全球經(jīng)濟衰退的擔憂日益加劇,我們看到中國需求不確定性的水平正在上升。”

心情也很緊張。從2018年開始,美國與中國發(fā)動貿易戰(zhàn),對中國制成品征收關稅。中國已進行報復。

貿易戰(zhàn)正在升級。去年,美國將華為及其內部芯片部門海思(HiSilicon)加入了“實體名單”,稱兩家公司構成了安全隱患。要與華為開展業(yè)務,一家美國公司必須獲得美國政府的許可。許多美國供應商被拒絕,這影響了他們的底線。

然后,今年早些時候,美國擴大了中國“軍事最終用戶”的定義。這是為了防止中國軍方獲得美國的任何技術。

今年五月,美國開始阻止海外工廠向華為輸送芯片。“展望未來,如果滿足以下三個條件,海外晶圓廠必須停止對華為的銷售:A)晶圓廠使用美國的設備或軟件制造芯片;B)芯片是華為設計的;C)芯片制造商知道所生產的產品將運往華為?!?Cowen的分析師Paul Gallant說。“(這要求)外國芯片制造商在將芯片出售給華為之前,先使用美國的設備獲得許可證。但是新規(guī)則的措詞實際上可能并未禁止這種銷售。從好的方面來看,新規(guī)定僅涵蓋海思半導體實際設計的芯片,而不是將海外晶圓廠生產的所有芯片都出售給華為。

在某個時候,臺積電可能會中止向華為的新訂單。尚不清楚這將如何進行。規(guī)則是模糊的,可能會在一夜之間發(fā)生變化。

晶圓代工,EUV的努力
即使在貿易戰(zhàn)之前,中國仍處于大型晶圓廠擴張計劃的中間。根據(jù)SEMI的“世界晶圓廠預測報告”,在2017年和2018年,中國有18座晶圓廠正在建設中。最終,這些晶圓廠建成了。

據(jù)SEMI稱,中國目前在建3個晶圓廠。“其中兩個晶圓廠用于鑄造。一個是8英寸,另一個是12英寸。還有一個用于存儲的內存(12英寸)。SEMI的分析師Christian Dieseldorff表示,還剩下7個。

晶圓代工業(yè)占中國晶圓廠產能的很大一部分。中國的鑄造業(yè)分為兩類:國內和跨國廠商。

臺積電和聯(lián)電都是跨國公司。臺積電在上海經(jīng)營200mm晶圓廠。臺積電于2018年開始在南京的另一家工廠出貨16nm finFET。

聯(lián)電正在蘇州的200mm晶圓廠生產芯片。聯(lián)電在廈門也有一家新的300mm鑄造廠,出貨量為40nm和28nm。

同時,中國的國內代工廠商,例如ASMC,CS Micro和華虹集團,都專注于成熟的工藝。處于領先地位的初創(chuàng)公司HSMC正在研發(fā)14nm和7nm芯片。

根據(jù)TrendForce的數(shù)據(jù),中國最先進的代工公司中芯國際是全球第五大代工供應商,僅次于臺積電,三星,GlobalFoundries和聯(lián)電。

直到去年,中芯國際最先進的工藝是28nm平面技術。相比之下,臺積電在十年前推出了28nm。時至今日,臺積電在研發(fā)方面已將5nm提升至3nm。

這是中國政府的痛處。由于中國落后,中國OEM必須從國外供應商那里獲得最先進的芯片。

另一方面,中國成熟的流程沒有差距。D2S'Pang說:“對于大多數(shù)晶圓廠而言,技術節(jié)點差距不是問題,因為用于物聯(lián)網(wǎng)和汽車應用的大多數(shù)芯片都不需要前沿節(jié)點。”

盡管如此,中芯國際仍在嘗試開發(fā)先進的工藝。2015年,中芯國際,華為,Imec和高通在中國成立了一家研發(fā)芯片技術合資企業(yè),計劃開發(fā)14nm finFET工藝。

這是很大的一步。“遷移到14nm的finFET并不容易。每個人都為此感到掙扎,” VLSI Research的Puhakka說。“中芯國際也是如此。他們要做什么很難。”

盡管如此,此舉對于繼續(xù)擴展至關重要。在20nm處,傳統(tǒng)的平面晶體管已經(jīng)用盡了。這就是為什么英特爾在2011年轉向22nm的finFET晶體管的原因。與平面晶體管相比,F(xiàn)inFET的功率更低,速度更快,但制造起來也更困難,更昂貴。

后來,GlobalFoundries,三星,臺積電和聯(lián)電采用了16nm / 14nm的finFET。(英特爾的22nm工藝大致相當于代工廠的16nm / 14nm。)

最終,經(jīng)過多年的研發(fā),中芯國際在2019年通過交付中國首批14nm finFET達到了一個里程碑。今天,14nm僅占SMIC銷售額的一小部分。“我們的客戶對14nm的反饋是積極的。我們的14nm產品涵蓋了低端應用處理器,基帶和與消費者相關的產品,涵蓋了通信和汽車領域?!敝行緡H的聯(lián)合首席執(zhí)行官趙海軍和梁孟松在電話會議上說。

盡管如此,中芯國際遲到了。例如,應用處理器是智能手機中最先進的芯片。當今的智能手機集成了基于7nm的應用處理器。智能手機中的其他大多數(shù)芯片(例如圖像傳感器和RF)都基于成熟的節(jié)點。

對于最先進的應用處理器,14nm并不具有成本競爭力。中芯國際開始生產14nm。但是,如果您看智能手機,則設計為7納米?!?IBS首席執(zhí)行官漢德爾·瓊斯(Handel Jones)說。“如果看一下7nm的晶體管成本,那么十億個晶體管的成本從2.67美元到2.68美元不等。10億個14nm晶體管的成本約為3.88美元。因此,您的成本差異很大?!?/span>

不過,14nm在其他市場上仍然可行。“ 14納米技術可用于低端4G5G智能手機,但不適用于主流或高端智能手機。擁有適當處理器和系統(tǒng)架構的14nm可以用于5G基礎設施應用。

現(xiàn)在,在政府的資助下,中芯國際正在開發(fā)12nm finFET及其所謂的“ N + 1”。12nm是14nm的縮小版本。N + 1計劃在年底之前被稱為7nm技術。

N + 1看起來并不完全是。Gartner分析師Samuel Wang說:“中芯國際的N + 1相當于三星的8nm,比臺積電的10nm稍好?!?/span>中芯國際今年的N + 1可能性不大。到2020年底,12nm可能已準備就緒?!?/span>

再一次,中芯國際可能會錯過市場窗口。到2021年出貨8nm時,智能手機OEM廠商將把其5nm作為應用處理器。

這不是唯一的問題。中芯國際可以使用現(xiàn)有的晶圓廠設備生產8nm或7nm。除此之外,當前的光刻設備已經(jīng)用光了。因此,除了7nm以外,芯片制造商還需要下一代光刻技術EUV。

但是,美國最近阻止了ASML將其EUV掃描儀運送到SMIC。如果中芯國際無法獲得EUV,則該公司將停留在8nm / 7nm。“根據(jù)瓦森納爾協(xié)議,美國阻止了EUV出售給中芯國際(去年)。我無法預見在可預見的將來向中國運送EUV的情況。但是,由于14nm僅占SMIC銷售額的1%,因此幾年來他們不再需要EUV技術。” Cowen and Co.分析師Krish Sankar說。

不過,在某個時候,中國希望超越7納米。這就是中國致力于自己的EUV技術的原因。中國尚未開發(fā)出功能完善的EUV掃描儀-它可能永遠不會開發(fā)出。但是競技場上的工作正在進行中。EUV子系統(tǒng)正在多家研究機構中開發(fā)。例如,去年中國科學院上海光學精密機械研究所(CAS)描述了由千瓦激光器驅動的EUV的發(fā)展。2020年,中國科學院微電子研究所的研究人員發(fā)表了一篇論文“通過循環(huán)一致學習進行EUV多層缺陷表征”。

VLSI Research的Puhakka表示:“圍繞EUV的不同組件進行了大量研究。“我認為他們沒有先進的可制造的EUV工具。開發(fā)自己的EUV將是一個漫長的過程。我不會說永遠不會,但這是一條漫長而艱難的道路?!?/span>

其他人表示同意。“我認為我們只能看到中國正在做的事情的一部分。就像冰山一樣,大部分都看不見。他們的院士發(fā)表了有關EUV技術的論文,但是我所看到的工作基本上只是理論上的。我認為其中存在一些底層硬件。” HJL光刻技術負責人哈里·萊文森(Harry Levinson)說。

內存,非內存方面的努力
與此同時,中國在內存方面存在巨大的貿易缺口,即DRAM和NAND閃存。DRAM用于系統(tǒng)中的主存儲器,而NAND用于存儲。

中國進口了大部分記憶。英特爾,三星和SK海力士在中國經(jīng)營存儲器工廠,為國內和國際市場生產芯片。

為了減少對這里的依賴,中國正在發(fā)展其國內存儲器產業(yè)。2016年,YMTC出現(xiàn)了進入3D NAND業(yè)務的計劃。而且,CXMT目前正在擴大中國的第一個本地DRAM。

兩者都是競爭市場,尤其是NAND。3D NAND是平面NAND閃存的后繼產品。與2D結構的平面NAND不同,3D NAND類似于一個垂直摩天大樓,其中堆疊了存儲單元的水平層,然后使用微小的垂直通道進行連接。

通過堆疊在設備中的層數(shù)來量化3D NAND。隨著增加更多的層,系統(tǒng)中的位密度增加。但是,隨著添加更多層,制造挑戰(zhàn)將升級。

Lam Research執(zhí)行副總裁兼首席技術官Rick Gottscho表示:“擴展3D NAND面臨兩個重大挑戰(zhàn)。“其中之一是,當您沉積越來越多的層時,薄膜中的應力會增加,這會使晶圓翹曲并使圖案變形。然后,當您進入雙層或三層時,對齊將成為更大的挑戰(zhàn)?!?/span>

同時,YMTC似乎已經(jīng)克服了其中一些挑戰(zhàn)。去年,YMTC交付了其第一款產品– 64層3D NAND設備。現(xiàn)在,YMTC正在采樣128層3D技術。

公司落后了。相比之下,跨國供應商正在發(fā)售92層/ 96層3D NAND設備。他們還在增加112層/ 128層產品。

盡管如此,YMTC至少在中國可能成為一個因素。YMTC的芯片已被納入中國公司的USB卡和SSD中。TechInsights分析師Jeongdong Choe表示,如果中國OEM采用YMTC的技術,“這可能會破壞NAND市場份額。”

但可以肯定的是,在成為主要競爭對手之前,中國還有很長一段路要走。IC Insights總裁Bill McClean表示:“ IC Insights仍然非常懷疑該國是否能夠在未來10年內發(fā)展出一個龐大的競爭性本地存儲行業(yè),而這個行業(yè)幾乎可以滿足其存儲IC的需求?!?/span>

對于模擬,邏輯,混合信號射頻也是如此。麥克林說:“中國公司要在非內存IC產品領域競爭要花費數(shù)十年的時間。”

同時,中國出現(xiàn)了幾家中國的GaN和SiC供應商。他們似乎是代工供應商和材料供應商,但顯然,中國落后于舞臺。GaN用于功率半導體和射頻,而SiC用于功率器件。

YoleDéveloppement的技術和市場分析師Ahmed Ben Slimane表示:“中國市場在全球電力電子行業(yè)中代表著巨大的機遇,主要是在汽車和消費類領域?!?/span>在電動汽車/混合動力汽車應用的推動下,SiC器件開始被中國領先的汽車制造商采用,例如比亞迪在其Han EV模型中。在功率GaN行業(yè)中,小米,華為,Oppo和Vivo等中國智能手機OEM廠商已選擇采用GaN快速充電器技術。在中國強大的系統(tǒng)制造商的推動下,考慮到當前中美沖突的背景,在成本競爭力和質量提高方面,中國晶圓和設備制造商無疑處于有利地位?!?/span>

反過來,這又推動了生態(tài)系統(tǒng)的發(fā)展。YoleDéveloppement技術與市場分析師Ezgi Dogmus表示:“在電力電子市場中出現(xiàn)寬帶隙半導體之后,中國確實在推動創(chuàng)新技術,并開始建立其國內價值鏈?!?/span>“在中國的功率SiC生態(tài)系統(tǒng)中,我們看到各種參與者都參與了晶圓,外延晶片和器件級別。這包括晶圓廠的Tankeblue和SICC,晶圓廠Epiwafer的Epiworld和TYSiC以及晶圓代工業(yè)務的Sanan IC等。關于功率GaN市場,從2019年開始,我們見證了有競爭力的GaN器件制造商的加入,例如Innoscience和快速充電器領域的各種系統(tǒng)集成商?!?/span>

包裝計劃
中國在包裝方面也有大計劃。JCET是中國最大的包裝公司。它還具有其他幾個OSAT

“中國的OSAT技術對于主流行業(yè)能力來說是最新的,與前端晶圓制造技術相比,這被認為是技術上的差距要縮小得多。它們能夠支持幾乎所有流行的包裝類型,” FormFactor的Leong說。“新興的2.5D / 3D異構集成技術在中國仍在開發(fā)中,明顯落后于臺積電,英特爾和三星等行業(yè)領導者?!?/span>

不過,先進的包裝可能是中國可以縮小差距的地方。這不僅在包裝中,而且在半導體技術中。

如今,對于高級設計,業(yè)界通常使用芯片縮放來開發(fā)ASIC。在這里,您可以在每個節(jié)點上縮小不同的功能,然后將它們打包到單片式芯片上。但是這種方法在每個節(jié)點上變得越來越昂貴。

業(yè)界正在尋找新方法。開發(fā)系統(tǒng)級設計的另一種方法是在高級封裝中組裝復雜的模具。梁啟超說:“隨著摩爾定律放慢,與先進封裝技術的異質集成代表了中國千載難逢的機會,趕上了半導體?!?/span>


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