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盤(pán)點(diǎn)3C領(lǐng)域中常用的幾種超快激光加工技術(shù)

獨(dú)愛(ài)72H ? 來(lái)源:激光天地 ? 作者:激光天地 ? 2020-04-08 16:31 ? 次閱讀

(文章來(lái)源:激光天地)

如今,激光加工技術(shù)已經(jīng)滲透到科學(xué)研究和工業(yè)生產(chǎn)的各個(gè)領(lǐng)域中。脈沖寬度小于10-11 s的超快激光加工作為精密加工中最為活躍的一支,其發(fā)展尤為引人注目。

隨著電子器件朝著精密化、微型化、柔性化的方向發(fā)展,新型電子器件對(duì)加工技術(shù)提出了更高的要求,超快激光加工技術(shù)的獨(dú)特優(yōu)勢(shì)正吸引著研究人員不斷探索著其在電子制造領(lǐng)域的應(yīng)用。

超快激光隱形切割技術(shù),隨著手機(jī)智能設(shè)備功能的不斷完善,顯示屏幕的尺寸和形狀變得多樣化,全面屏更是成為屏幕發(fā)展的主流方向。為了預(yù)留元件空間及減少碎屏的可能,屏幕非直角切割變得十分必要。超快激光隱形切割作為激光應(yīng)力切割技術(shù)的延伸,可在透明材料內(nèi)部誘發(fā)微小裂紋,微小裂紋在外力的引導(dǎo)下逐漸沿激光掃描路徑延展,實(shí)現(xiàn)透明材料的分離。

美國(guó)Spectra-Physics公司將超快激光與隱形切割技術(shù)結(jié)合,提出了ClearShape切割技術(shù),可將激光對(duì)材料的影響區(qū)限制在微米量級(jí)。德國(guó)Rofin公司基于成絲機(jī)理發(fā)明的SmartCleave FI工藝可以快速分離包括很小的加工轉(zhuǎn)彎角度在內(nèi)的任意形狀的透明材料,切割玻璃的厚度范圍在100 μm到10 mm之間。

以大族激光、華工激光、銳科激光、德龍激光為代表的國(guó)內(nèi)知名激光公司早在幾年之前就加大了超快激光高精切割屏幕技術(shù)的投入,并在國(guó)際市場(chǎng)上占據(jù)了一定份額。

超快激光直寫(xiě)技術(shù),隨著對(duì)電子器件小型化與靈活性要求越來(lái)越高,催生了柔性電子這一新的應(yīng)用領(lǐng)域。柔性AMOLED屏幕的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)——柔性薄膜晶體管(thin film transistor, TFT),要求其溝道長(zhǎng)度小于10 μm,微納米圖案化是溝道制造的核心。

超快激光直寫(xiě)技術(shù)主要利用材料對(duì)超快激光的非線(xiàn)性吸收,在作用區(qū)域引發(fā)物理化學(xué)性能變化,通過(guò)控制光束掃描實(shí)現(xiàn)二維或三維成型加工。超快激光直寫(xiě)技術(shù)不需要掩膜,其加工分辨率可達(dá)到納米量級(jí),獨(dú)特的“冷”加工機(jī)制特別適合對(duì)耐熱性差的柔性有機(jī)材料進(jìn)行微納結(jié)構(gòu)加工。超快激光直寫(xiě)還可用于微電路的制作,在敷銅層或鍍金層上直接加工出所需的圖案化線(xiàn)路,成為基于柔性有機(jī)聚合物基底的電子器件制造中具有獨(dú)特優(yōu)勢(shì)的加工手段。

采用532 nm飛秒激光直寫(xiě)聚酰亞胺(polyimide,PI)薄膜,通過(guò)碳化在PI薄膜上形成多孔碳結(jié)構(gòu),可用于制作柔性電子器件中具有儲(chǔ)能密度高、導(dǎo)電率高等優(yōu)點(diǎn)的柔性超級(jí)電容,為可穿戴設(shè)備提供充足的能源供應(yīng)。

超快激光脈沖沉積技術(shù),具有特定功能的薄膜材料是制造先進(jìn)電子器件的基礎(chǔ),而柔性電子對(duì)薄膜厚度和質(zhì)量提出了更高的要求。超快激光脈沖沉積技術(shù)因其高質(zhì)量的薄膜生長(zhǎng)能力而備受關(guān)注,超快激光的高功率密度特性可以使任何難熔性材料氣化,而超短脈沖特性又使得它與材料作用時(shí)產(chǎn)生的顆粒更加細(xì)小,因此在薄膜制備特別是高熔點(diǎn)材料的薄膜制備方面具有重要意義。

4超快激光剝離技術(shù),隨著微型器件與大規(guī)模集成技術(shù)的發(fā)展,芯片的選擇性剝離與轉(zhuǎn)移逐漸成為芯片裝配與維修的關(guān)鍵技術(shù)。激光剝離技術(shù)(laser lift-off, LLO)是一種利用激光能量作用于材料交界面實(shí)現(xiàn)材料分離的技術(shù),被廣泛應(yīng)用在OLED屏幕制造工藝中。選擇性激光剝離技術(shù)(selective laser lift-off, SLLO)也開(kāi)始應(yīng)用于芯片的剝離與裝配,與傳統(tǒng)LLO技術(shù)不同,SLLO技術(shù)主要針對(duì)微小區(qū)域或結(jié)構(gòu)單元進(jìn)行剝離,更適用于微器件的更換與維修。

雖然目前將超快激光引入激光剝離尚屬探索性階段,但已有研究工作表明,鑒于超快激光的本征物理特性,超快激光剝離具有很強(qiáng)的局域約束性,幾乎不會(huì)產(chǎn)生熱效應(yīng)而損傷電子器件其他非剝離功能層。

超快激光誘導(dǎo)前向轉(zhuǎn)移技術(shù),激光誘導(dǎo)前向轉(zhuǎn)移(laser induction front transfer, LIFT)技術(shù)是通過(guò)激光脈沖輻照透明基底表面的一層薄膜材料,將薄膜加熱到熔融狀態(tài),以液態(tài)形式轉(zhuǎn)移到平行基底放置的受體表面。LIFT技術(shù)與LLO激光剝離技術(shù)相比,具有更高的選擇性,能快速沉積小尺寸圖形和微結(jié)構(gòu)。而引入超快激光的激光誘導(dǎo)前向轉(zhuǎn)移技術(shù)可制作的圖形特征尺寸能夠達(dá)到微納米量級(jí),已有報(bào)道采用飛秒激光誘導(dǎo)前向轉(zhuǎn)移技術(shù)制備可應(yīng)用于微電器件的微米級(jí)銀導(dǎo)線(xiàn)。

此外,通過(guò)在薄膜材料與透明基底之間添加聚合物犧牲層,LIFT技術(shù)也可用于微電子機(jī)械系統(tǒng)(microelectromechanical systems, MEMS)的轉(zhuǎn)移與裝配。
(責(zé)任編輯:fqj)

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